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Tech
Notes
技術專文

Strict Defense –

The Optimum

Operation Defense

of Ammonia

Nitrogen System

Membrane

Degasifier

禦敵從嚴─氨氮系統

脫氣膜最佳運轉防禦

中科十五廠五期薄膜設備 攝影 / 洪湘寧

半導體製程中會產生高濃度氨氮廢水，廠內以脫氣膜資源最佳化方式去除水中氨氮，脫氣膜法於膜管內通以
硫酸，膜管外通以氨氮廢水，藉由質傳效應使硫酸吸收廢水中氨氣，形成硫酸銨副產物。此方法除了可消耗
廠內製程行為產生之大量廢硫酸廢液，且硫酸銨副產物可轉換工業氨水或再利用作為石膏板，達到去除污染
物且資源化再利用廢棄物之目的。氨氮廢水處理系統的核心為脫氣膜，實際運轉發現脫氣膜易產生阻塞、漏
水、損壞三大類異常，因此訂定三大防禦指標進行運轉防禦：1. 來源水質控管、2. 運轉參數控管、3. 保養
控管，以十二吋單一試行廠為例，在此條件操作下運轉兩年脫氣膜損壞率仍維持 0%，顯示藉由三大防禦指
標控制確實可有效降低脫氣膜損壞次數，達到脫氣膜運轉最佳化與系統永續運轉的目標。

關鍵詞／氨氮廢水、脫氣膜、硫酸
Keywords/ Ammonia Nitrogen Waste Water, Membrane Degasifier (MD), H 2 SO 4
文│楊政儒 陳建助│竹科廠務三部│

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