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             Notes
             技術專文


             圖 6、脫氣膜各種異常對照圖






















               水側阻塞                    酸側阻塞                   漏水                     異物割破膜絲





            此時氨氮廢水中氨分子 (NH 3 ) 佔百            化學性                             濃 度H 2 O 2 <10ppm 及 Cl 2 <5ppm,
                               +
            分比降低,轉為 NH 4 型態升高,               化學損壞是指脫氣膜來源水測及酸                 鐵離子容許濃度 <0.1ppm,因為氧
            造成氨氮去除效率變差。                      側含有氧化性物質,因中空纖維膜                 化物會使脫氣膜氧化及脆化,鐵離
                                                                             子會使脫氣膜阻塞通量及去除效率
                                             本身材質為 PP,在雙氧水 (H 2 O 2 )
                                                                             降低。
            酸側漏水                             及氯離子 (Cl 2 ) 等氧化劑長期與膜面
                                             接觸下易產生化學變化,使膜絲氧                 鐵離子容許濃度為執行系統風險分
            第二種酸側漏水會造成脫氣膜酸側
                                             化及脆化。                           析及統計各廠資料所規範出的標準
            出口 pH 值微上升,形成硫酸銨循
                                                                             值,分析發現 CWD 系統濾心更換
            環終點 pH 設定值已達標,硫酸銨
                                                                             頻率過高,約兩天就要更換一次濾
            濃度卻不足 <30% 之異常,此種
                                                                             心,脫氣膜一個月約送洗三支,不
            漏水發生可由每次循環飽和時間判                  脫氣膜防禦指標
            斷,當每批次的循環時間逐漸縮                                                   僅耗材也耗人力,將阻塞濾心送樣
                                                                             燒結分析,數據顯示氧化鐵 (Fe 2 O 3 )
            短,從兩方向分析異常原因,原水
                                                                             所佔比例約 50%,繼續追查發現機
            氨氮濃度提高、硫酸銨比重不足。                  總結來說阻塞及漏水行為的發生,
                                                                             台排放原水並未含有鐵離子成分,
            一般脫氣膜異常漏水,依照目前做                  就是脫氣膜初期異常之警訊,當兩
                                                                             真正來源為外叫工業鹽酸,當工業
            法會將脫氣膜送回清洗廠,進行測                  種異常狀況阻塞及漏水程度擴大無                 鹽酸加入 CWR 回收系統調整 pH
            漏確認漏水嚴重程度,藉以判斷可                  法修復,就會造成脫氣膜損壞,故                 值後,再經由 RO 膜濃縮鐵份,鐵
            修復復原能力。                          針對損壞原因制定脫氣膜三道防禦                 份最後在 CWD 系統鹼性調整槽產
                                             指標(如 表2),藉以監控參數降低               生鐵沉澱物,阻塞濾心及脫氣膜。
                                             損壞頻率。
            損壞
                                             第一道防禦 - 來源水質控管 ( 水側             酸側水值
            最後一種異常情況為脫氣膜損壞,
                                             水質、酸側水質 )。                      酸側水質控管部分,目前各廠全面
            以損壞特性劃分為物理及化學,損
                                                                             以廢鹽酸法 (WSR) 取代外叫工業
            壞的定義是指任何清洗及修補措施                                                  硫酸,廢鹽酸法主要以廠內廢硫酸
            皆無法回復脫氣膜通量及效率,即                  水側水值
                                                                             添加鹽酸 (HCl) 反應去除廢酸之雙
            可判斷為損壞。                          十二廠四 / 五期目前共有三套氨氮
                                                                             氧水 (H 2 O 2 ),反應過程會產生副產
                                             處 理 系 統 (TBE、AEX 及 CWD),
                                                                             物氯氣 (Cl 2 ),因為雙氧水與氯氣皆
            物理性                              其中 TBE 及 AEX 運轉模式為共同            屬於強氧化劑,需監控回收酸中水
                                             收集處理,其來源水氨氮濃度不
            物理損壞是指脫氣膜膜絲受到尖銳                                                  質,氧化物控制標準為 H 2 O 2 <50
                                             高,進水膜式為四支脫氣膜串聯,
            異物割破嚴重,使脫氣膜無法修補                                                  ppm 及 Cl 2 <30ppm,同樣防止過高
                                             去除效率可達 99.5 %。
            損壞,最後脫氣膜委外清洗過程操                                                  的氧化物濃度氧化破壞脫氣膜。
            作不當亦可能造成損壞 ( 洗膜手法                水側水質控管部分,活性碳出口設                 第二道防禦 - 運轉參數控管 ( 水側
            詳見 4-5)。                         H 2 O 2 分析儀,確認水中氧化物容許           參數、酸側參數 )。



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