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VOL.52 廠務季刊 品質監控_化學研磨液系統分析儀器突破性發展

結論 作者介紹

隨半導體製程越來越精細，研磨液的組成因應製程的 曾誌江 Frank Tseng
需求，不斷的添加多種化學品，但伴隨而來的是更加
台科大化工畢，個人在台積，從廠務工程
複雜的變化，廠務利用研磨液供應系統 SDS(Slurry 專案一直到現在的技術發展課，大部分的
Dispense System) 輸送不同類型的研磨液，透過稀 時間做專案居多，我覺得廠務除了精進
釋不同的比例與攪拌時間，以符合 CMP 的需求，然 廠務系統之外，我們可以做到更進一步
了解製程與具備協助改善良率的能力 。
而研磨液在管線中不斷的循環碰撞，造成研磨液的
變化( 老化/ 質變 )，以往是根據經驗值或藉由已造成
葉俊宏 Chun-Hung Yeh
的晶圓缺陷來微調並定期的排放，但透過經驗值( 時
保持工作熱忱，持續精進對廠務系統與
間 ) 來定義化學研磨液 pot life 並不是很好的辦法，
製程的了解，分析不只是得到數據，更
因為當研磨液提早變質，繼續使用會造成額外的損
重要的是數據代表的意義，才能知其所
失，而當研磨液可以繼續使用，卻提早排放掉，無形 以然。
中也提高生產的成本。因此本研究提出可以快速全面
性分析且可以線上應用的方法 : 利用光學與電化學的
原理，針對研磨液中的研磨粒與化學品純度的成分進
行分析，並透過實際的案例說明將研磨液品質以科學
的方式量化成數值後，可以幫助研磨液品質更加穩定
和可控，也提供給 operation 參考依據來做及時調整
保持產品品質的一致性，還可以延伸應用(Filtration
time、Filter lifetime) 來最佳化運轉參數，而不需花
費大量時間與生產成本進行 pi-run。

參考文獻

01. Sourav Bhattacharjee., Journal of Controlled
Release(2016).
02. T. N. Tran et al., Phys. Chem. Liq(2019).
03. Carl., 5大關鍵指標判斷 CMP 表現。https://
carl5202002.pixnet.net/blog/post/312432396-
cmp-performance

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