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TSMC/ Facility Published
圖 8：Slurry CSL9535C mixing tank 過濾時間與 wafer data 時間關係圖
4.1.3 過濾器壽命 pot life
過濾器 (filter) 使用一段時間後，被攔截在 filter 上 而，時間推進 (day4~day7)，光強度轉而下降，這是
的粒子 ( 濾渣 ) 會堆積形成濾餅 (filter cake)，進而 因為濾餅所造成的壓損已變得不可忽視，濾餅上的粒
造成 filter 壓損上升，也就是說，更大的壓力將會作 子也更容易被巨大的壓力沖脫出來，從圖9 可以看到
用在 filter cake 上，更容易使濾餅上的粒子被沖脫 濾效在第 3 天發生轉折且有下降趨勢，且測得的研磨
釋放出來，進而導致研磨液品質變得不好。因此， 液品質第 6 天與第 1 天差不多，代表研磨液可以繼續
若能量化過濾器的壽命 (filter lifetime)，不僅可避 使用。需注意的是，第 7 天的研磨液品質較第 6 天與
免線上使用到品質變差的研磨液，也可以提供 filter 第 1 天差，因此不建議將 filter lifetime 設定為 7 天。
lifetime 的量化數值作為更換過濾器的依據。故本文 將此結果與 Wafer data(deep-scratch) 進行比較，如
針對 N3 CMP slurry F6A 的研磨液品質來間接評估 圖 10 所示，線上使用 7 天 filter lifetime 的過濾器提
過濾器壽命。由測試結果發現隨過濾器使用時間增 供的研磨液，deep-scratch 比 6 天 filter lifetime 差，
加 (day1~day3)，光強度上升，這是因為濾渣的堆積 結果一致。
使過濾器平均孔徑縮小，可過濾更小尺寸的粒子。然
圖 9：Slurry F6A filter lifetime 與 CPL 量化光強度的關係圖
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