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Simulation of Stack 前言 染防治功能。而潔淨室主要新鮮空氣來源為外氣空調
箱 (Make-up Air Unit, MAU) 吸入口，其設置位置通
Emission and the 近年來半導體工業的產品元件線寬已躍入奈米級要 常為屋頂處或建築物側牆，因此容易受到製程排氣煙
囪之排氣擴散所影響，當煙囪排出廢氣時，經由大氣
求，產品必須仰賴高精密的設計與製造，也意味其產
擴散及外氣空調箱的吸引力，重新導入潔淨室內產生
品元件易受到環境品質所影響，一般在半導體潔淨室
二次污染，可能使得潔淨室內空氣品質不良，直接或
Impact on Cleanroom 常見的環境污染以空氣分子污染物 (AMC) 為主，已 間接導致產品良率下降。
有不少案例證實其對晶圓缺陷 (Defect) 的直接關聯，
本研究目的主要是對新建廠房周遭環境的空氣品質進
包含腐蝕、成形異常或電性異常等問題。
行數值模擬分析，結合當地大氣資料，觀測其數值模
Intake Air 半導體廠生產和製程之工作環境一般皆須在潔淨室 擬結果，以評估在不同季節風向及新建廠房自身排
(Cleanroom) 中進行，以數十種的氣體、化學原料處
氣，對鄰近廠區空氣品質的影響，並考量附近其他污
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文│ 陳駿華 馮郁寧 胡石政│新廠設計部 國立臺北科技大學 │ 理，並透過不同的製程設備進行生產，因此造成後 染源，加以評估其單位排放物對新建廠房 FAB 棟及
端廢氣中的污染物種類繁雜。目前對於腐蝕性、易燃
ͽࢍზ߹វ˧ጯሀᑢ໬Ӧ 性、毒性的製程排氣先依照不同性質，在製程設備後 CUP 棟的外氣空調箱吸入口濃度影響程度，以提供
潔淨室污染防治設計參考。
端就地處理一次之後，再以中央廢氣處理系統進行二
၆γঈ۩አቐซঈݡኳ۞ᇆᜩ 次處理，然後由製程排氣煙囪排入大氣中，以達到污
本研究採用有限體積法，透過計算流體力學 (CFD) 軟體 – Ansys-FLUENT 進行相
關分析，以一新建廠房相關數據進行模型的建立，同時將鄰近廠區相關數據納入 陳 馮 胡
人生不在於拳出的多有力， 感謝給我們機會， 英國利物浦大學，建築
評估，針對該廠區在不同季節條件下，污染物 ( 總揮發性有機污染物 Total volatile 駿華 郁寧 石政
而是承受沉重的考驗時， 順境、逆境，皆是 工程博士。
organic compound, TVOC) 擴散進行分析討論，並預測污染物各條件對外氣空調箱 Chun-Hua Chen 仍不斷向前邁進， Yu-Ning Feng 恩人。 Shih-Cheng Hu 核心價值：誠信、正直
這才是成功之道。 、勤奮、寬恕。
吸入口污染物濃度的影響情形。
4 NEW FAB JOURNAL JUNE 2014 5