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技術專文

表 2、ITRS Liquid Chemical 化學系統發展方向 圖7、校正滑塊確認公頭安裝keycode

First Year of IC Production 2015 2016 2018 2020 2022 2024 2026 2028
DRAM 1.2 pitch, nm (contacted) 24 22 18 15 13 11 9.2 7.7

CHEMICALS-Components and Systems
Filtration 0.02/0.04 μm with high flux (1 gpm/0.5 psi/10”/1cP) [A]

Filtration sub 0.02 μm with high flux (1 gpm/0.5 psi/10”/1cP) [A]

Filtration sub 0.01 μm with high flux (1 gpm/0.5 psi/10”/1cP) [A]
Ionic POU purifiers (<1 ppt metals) [A]

Inline End point detection for lonic POU purifiers [A]
圖8、校滑軌將接頭直接導入母頭
Improved components to reduce particle generation, e.g. tubing,
valves, pumps, fittings, etc. [A]

Improved system startup & flushing methodology to more quickly
reach particle target and reduce chemical usage [A]
Improved flow capacity and increased pressure for pumps [C]

Improved flow capacity increased pressure and temperature for piping
components [C]

Reduced pressure fluctuations by improved BCD system performance
and by better pressure and flow control [A], [B] Research Required
Development Underway
Qualification/Pre-Production
Improved connection technology (reduce leakages and increase Continuous Improvement
reliability) [A], [D]
Decrease permeation of piping components (eg HCl permeation) [A],
[D]
的防護也將是必要的。 灌充公頭自動移動 code位置動作 圖7 ，來確認灌充手
Higher purity resins and components (metals, organics, anions, cations, 是否正確安裝，我們稱做“校正滑
surface smoothness, permeability) [A] 另外各廠灌充區的規劃也不盡相 參考Hosan的設計後，考量到整體 蓋”。此設計是為確保灌充母接
同，例如灌充口外的止水墩設置各 複雜度高還有機台內機器手臂維
Bimination of particle sources in chemical distribution system 頭不會因為人為異常而損壞，故它
including POU (particle prevention in chemical conditions) [A], (for 廠不一，考慮到機身標準化的前 護不易，故我們預計使用較簡易 是很重要的動作。其設計邏輯與接
EUV mask cleaning) 且可靠度較高的滑軌來進行。這部
提，本設計就需要有高度調整的彈
頭一樣，透過滑軌來執行 圖8，但
This legend indicates the time during which research, development, and qualification/pre-production should be taking place for the solution. 性來因應，這部分預計會在支撐腳 分保留人員對位並確認的動做，對 需要兩個行程，一是水平移動來作
的部分增加可調整的範圍，由原本 準key code後將公頭擺放正確並固
主要動作，二是主要動作完成後需
標準機台的5~12公分的彈性要增 定，同時進行後續流程正確性核 要往上移動避免干涉接管動作；而
加到5~30公分。 對。接下來機構移動採用氣壓缸滑 元件的選用邏輯則與接頭移動滑軌
化；基於上述方向，本段更進一步
表 3、CDS 系統作業接觸外氣風險分析 軌來移動，主要做單純的直線傳 相同，當然其負載需求就相對較低
說明此設計。
送，該動作首重精準度以確保動作 (僅滑塊本身，小於5Kg)。
廠務單元 作業項目 作業頻率 位置 接觸外氣風險 接管自動化 完成後的保壓正常。與Coupler原廠
商討論後認為誤差要在1mm內，故
機台外構具彈性 接管自動化可以說是整個設計的 多功能母頭防塵設計
CCBTU 灌充接管 每天 戶外/室內(15B後) 高 選用的元件定位準確度達10條(即
基於未來新舊廠都可應用的理念， 核心，具有把人為動作流程轉為 目前設備上CCB母頭的塞子主要功
取樣 每半年 管路排出 無 數位化的能力。目前預設流程是 重複誤差<0.1mm)。另外機構荷重
我們預計採用外掛式設計，在既有 須符合設備需求，目前估算整體接 能為防塵和避免化學蒸氣逸散，避
系統不做額外大改造的前提下來研 濾心更換 每半年 室內/PVC布區隔 低 灌充手將公頭放置於搭配key code 頭荷重約40Kg (公頭、法蘭、支撐 免無使用的狀況下不會有異物進入
發。原則上材質必須和既有相容， 設計的固定夾具後，將作業門關閉 接頭中。因此本設計將透過多功能
RU 取樣 每半年 管路排出 無 架、與含硫酸管材)，故至少選擇
遇施工須焊接時可確保一定強度， 後就開始自動流程。自動流程包含 型的校正滑蓋與作業流程的連動，
濾心更換 每半年 室內/PVC布區隔 低 缸徑32mm、操作壓力5~6kg的元
故酸鹼類化學引延續採用PP材質， 三大動作：灌充公頭自動移動、 在確保接合空間清潔之前，不會暴
件，可產生40~48Kg推力始可符合
而有機類化學品則使用SUS304材 CDU 取樣 每半年 管路排出 無 母頭防塵蓋的開關與接合前清洗 露母頭避免汙染，同時達到設計簡
本應用。
質。但考慮在許多廠區灌充位置會 濾心更換 每半年 室內/PVC布區隔 低 (DIW+N2)。以下針對三大流程分 化的概念 圖9 。
在戶外，因此針對日曬和風吹雨打 別說明。 在移動之前，會有自動確認key-

18 300mm FABS FACILITY JOURNAL SEPTEMBER 2018 19