Page 77 - Vol.23
P. 77
Study on New
Type of UV
in TOC Removal Capability
and Operation Benefit in
UPW System
新型紫外線裝置對超純水總有機碳
去除效率探討及效益分析
近年來半導體技術不斷演進，元件線寬越來越精密，製程環境中微量污染物將影響產品良率，微量有
機物之去除是穩定超純水水質、提升良率之關鍵。一般而言，UPW 中有機物質常以總有機碳表示，
而 UV 是 UPW 系統中去除 TOC 之關鍵角色。十四廠七期為本公司率先於 UPW 系統使用新型 UV 裝
置的廠房，本文以其為案例，分析新舊型 UV TOC 去除效率並探討使用效益。
關鍵詞/ 超純水、紫外線裝置、總有機碳
Keywords/ Ultrapure Water、Ultra Violet、Total Organic Carbon
文│楊文守 林京歐│南科廠務四部│
前言 機碳（Total Organic Carbon, ，以下簡稱 TOC）
為重要水質指標之一，而 UPW 系統中的紫外線裝
置（Ultraviolet，以下簡稱 UV）單元是能有效降
半導體製造過程中，超純水（Ultrapure water， 低 TOC 的關鍵角色。
以下簡稱 UPW）主要用於去除蝕刻製程殘留於晶
因應製程對於 UPW 的要求，UPW 製造技術亦不
圓上的化學藥品、化學機械研磨後的清洗以及去
斷演進。本公司十四廠七期率先採用新型 UV，本
除微影製程的殘留光阻，以避免汙染晶圓 [1] 。然 文針對新舊型 UV TOC 去除效率進行比較，參考
而半導體製造技術不斷進步，元件線寬越來越精 對象為十四廠五 / 六期 UPW 系統，並針對使用新
密，製造環境中微汙染物控制也日益嚴格，因此 型 UV 所帶來的效益進行分析，以期作為後續使用
UPW 的品質與製程良率有著密切關係，其中總有 廠區參考。
高雄人，喜歡音樂、籃球、吉他。 謝謝各位工作夥伴的指導與
文 守 能夠與一群優秀的工程師共同學習、 京 歐 包容，於工作中發掘興趣，
成長，是再痛快不過的事了。 林 Jing-Ou Lin 並潛心學習，繼續享受充實
的旅程！
楊 W.S. Yang
300mm FABS FACILITY JOURNAL SEPTEMBER 2016 77
