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                 NTPs  Voltage  Frequency  Pollutant  Flow rate  Carrier Gas  Energy efficiency  Conversion efficiency  Reference

                      kV    Hz       ppm          mL/min           g/kWh       %
                 DBD  8     2.85×10 6  CF 4  (800ppm)  1,000  N 2  -           32            Chang et al., 2001

                 DBD  -     10 4     CF 4         200     -        0.14        56            Kim et al., 2005
                 DBD  8     -        CF 4         100     -        1.81        51            Futamura et al., 2001
                 DBD  21    60       CF 4         600     N 2      0.28        48.6          Yu et al., 2001
                 DBD  13.5  30       N 2 O/NO (3,000ppm)  200  N 2  0.38       17.8          Hu et al., 2015


                 表 1、NTP 去除 CF 4  /N 2 O


                 NTPs          Voltage  Frequency  Pollutant  Flow rate  Carrier Gas Energy efficiency Conversion efficiency  Reference
                               kV    Hz      ppm     mL/min        g/kWh       %

                               15    240     CF 4  (300)  600      -           68            Chang et al., 2001
                 CuO/ZnO/MgO/r-Al 2 O 3                     N 2
                               10    50      CF 4  (1000)  250     0.54        54            Futamura et al., 2001
                 BaTiO 3                                    N 2
                               15    240     CF 4  (300)  600      0.64        65.9          Chang et al., 2001
                 CuO/ZnO/MgO/r-Al 2 O 3                     N 2
                               13.5  30      N 2 O/NO  200         0.37        16.4          Hu et al., 2015
                 Ce 0.75 Zr 0.25 O 2                        N 2
                                             (3,000ppm)
                 表 2、Plasma catalysis 去除 CF 4  /N 2 O




               低溫電漿系統可分為電子束法(electron beam)、輝光放電(glow                      2013)、Ni/Al 2 O 3 、Ga/Al 2 O 3 及Zr/
               discharge)、電暈放電(corona  discharge)、高週波放電(radio              Al 2 O 3  (El-  Bahy  et  al.,  2003),其皆
               frequency  discharge,  RF  discharge)及介電質放電(dielectric      指出γ-Al 2 O 3 對CF 4 具有極佳的活性。
               barrier discharge, DBD)。前兩者因電子能量過高,除了設備成                    本計畫除了開發DBD式的NTP系統,
               本昂貴還有幅射線產生的問題故無法廣泛地運用,而電暈放電                                 探討其對CF 4 /N 2 O之去除活性外,將
               與介電質放電模型則因設備簡單且相對安全,為目前較受青睞
                                                                           更進一步地在電漿系統中加入γ-Al 2 O 3
               的處理系統, 圖1(A)(B)(C)為典型的電暈放電模型,主要由電極                          觸媒以建立plasma catalysis系統,進
               尖端產生電漿,其優點為反應器構造簡單而電漿產生容易,但                                 一步提升CF 4 /N 2 O去除之性能;並藉
               也由於活性範圍集中於電極尖端,導致電子平均能量較低和汙                                 由不同之操作條件,尋求最佳之操作
               染物處理效率較差。 圖1(D)則為介電質放電模型,其反應器由                              參數,使系統最佳化,評估其應用於
               兩個同心圓玻璃管組成,雖架構較為複雜,但產生的電漿能均
                                                                           去除PFCs之技術可行性。
               勻分布在試管中,其電子能量分布較高且處理面積大,亦無尖
               端放電容易導致耗損的問題,故做為本次研究發展的模型。

               表1為NTP系統去除CF 4 /N 2 O之相關文獻彙整,可看出不同的
                                                                           計畫方法
               電壓、頻率、汙染物濃度和流量都會影響去除率的實驗結果,
               而NTP對PFCs的去除效率約莫在50%左右,顯示NTP系統對
               CF4之轉化效率仍屬不足,而為了提高NTP的處理效率,同時                               本    研究內容可分為兩主軸,分別
               保持其低能耗的特性,電漿觸媒系統開始被廣泛地探討, 表2                                     為NTP-alone及Plasma catalysis
               為電漿觸媒系統應用於PFCs去除之相關文獻彙整,其不同的                                應用於CF 4 /N 2 O去除之測試,並在最
               觸媒被放入電漿反應器裡,利用觸媒的高活性增加汙染物去                                  後進行兩個系統之結合運用。此外,
               除效率,而文獻顯示plasma  catalysis對PFCs之去除效率接近                      本計畫亦探討不同之操作參數對CF 4 /
               70%,與NTP比較下,plasma  catalysis系統呈現較佳的PFCs                    N 2 O及去除效率之影響,包含不同操
               去除性能。而在觸媒的選擇上,相關文獻多以γ-Al 2 O 3 -based                       作電壓、載氣條件及觸媒使用等,實
               進行觸媒改善以提升CF 4 轉化效率,如Ce/Al 2 O 3   (Song  et  al.,           驗流程及內容如 表3。





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