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流程 實驗名稱 實驗目的

1 NTP-alone系統建立 建立穩定放電的DBD式NTP系統

2 NTP-alone系統於不同操作電壓對CF4及N2O之去除 了解NTP-alone對PFCs的處理能力
3 Plasma catalysis系統於不同操作電壓對CF4及N2O之去除 比較加入觸媒γ-Al2O3之後的結果
4 O2 對plasma catalysis系統去除效率之影響 了解O2對PFCs去除率的影響
5 Ar 對plasma catalysis系統去除效率之影響 了解Ar對PFCs去除率的影響

表 3、實驗流程及內容

Oven
Valve Oscilloscope
Mixing chamber
Frequency adjuster

DC power supply
or
MFC MFC MFC MFC AC power supply
Valve
Vent

Ar
CF 4 N 2 O 2
N 2O
O 3 analyzer
CO 2 analyzer
NO x and CO analyzer
FT-IR
Computer

圖 2、NTP 及 Plasma catalysis 系統示意圖

本系統實驗儀器架構圖如 圖2所示，反應物CF 4 /N 2 O係由氣體 而產生延時極短(2~4ns)之微放電，
鋼瓶所提供，所需CF 4 /N 2 O濃度可藉由N 2 與O 2 鋼瓶透過MFC調 由於微放電之電場極大，使存在氣
節氣體流量而得，而含有CF 4 /N 2 O的氣流待穩定後引入電漿放 體間之電子被加速並獲得高能與氣
電區進行反應。低溫電漿系統由DC power supply、frequency 體分子碰撞，使其激化、游離及解
adjuster及示波器所構成，反應器主體為石英材質，於石英管 離，並生成強反應性自由基。本研究
外壁纏繞鋁箔紙並以不鏽鋼網固定之作為外電極；另外，內電 採用之NTP-alone反應器為填充床式
極則為不鏽鋼棒置於反應器中心。CF 4 /N 2 O去除之相關參數包 反應器，主要由不鏽鋼內電極(外徑
含電壓、頻率、溫度、載氣、氧氣，而尾氣之分析系統則由 =3mm)及外電極(length=30mm)、石
NOx分析儀、CO分析儀、O 3 分析儀及FT-IR所組成。 英反應管(內徑=10mm)構成， 圖3為
本研究的DBD模組之放電情形，其可
穩定放電達6小時以上。

結果與分析
NTP-alone系統於不同操作電壓對
電漿產生系統與穩定性 CF 及N O之去除
2
4
本研究所開發之低溫電漿系統為介電質放電模組，其原理為 圖4 為NTP-alone於不同施加電
於兩電極間置入一具有高介電強度之介電質(石英)，並於兩電 壓對C F 4 及N 2 O去除之影響，實
極間施予高壓電以產生電漿，而介電質之存在可使放電穩定 驗條件分別為 Q=100mL /min、

300mm FABS FACILITY JOURNAL JUNE 2018 99