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Tech
             Notes
             技術專文

                                                                                                                                                                                                      實驗計畫與
             圖8、抑制劑示意圖                                       圖10、電解設備                                                                圖11、電解原理說明
                                                                                                                                                                                                      測試結果
                抑制            抑制
                                                                                                                                             -ve     整流器       +ve
                                                                                                                                                                           水流方向(出)
                       促進
                                                                                                                                        電子流至陰極    e +      e -  陽極電子流                                 實驗計畫
                Resin                 Resin
                 Cu                   Cu                                                                                                                                       陰極                     根據系統的問題點與文獻的參考,
                                                                                                                                                    H 2O                                   活動陰極
                Resin                 Resin                                                                                             陰極反應                陽極反應                -v                    選用平整劑(聚乙二醇) 圖12作為降
                                                                                                                                             e-
                                                                                                                                          2+
                                                                                                                                                                  +
                                                                                                                                        Cu  + 2  → Cu       H 2O → 2H  + O 2 + 2 e-                   低系統橋接短路機率的改善對策,
                                                                                                                                             e-
                                                                                                                                          +
                                                                                                                                        (2H  + 2  → H 2)                                              為證實平整劑的效益所制定實驗計
                                                                                                                                                    H 2O
                                                                                                                                                                                                      畫,來驗證平整劑濃度對於橋皆短
             圖9、液中求銅系統架構                                                                                                                                Cu 2+              水流方向(進)
                                                                                                                                                                                              +v      路的改善。
                                                                                                                                                                                              陽極
                                                                    Circulation                                                                  陰極       陽極
                  F12                                                                         銅管產出                                                                                                    實驗固定參數
                P1/2/3/45/7           Lorry in
                                     管路新設                                                                                            圖12、聚乙二醇                                                         – 溫度:將循環槽溫度控制 41℃~
                                                                                                                                                                                                        42℃。
                 F12P6          GC to WTS
                W-CuSO 4                                                                                                                                                                              – 硫酸銅體積:定義每批次循環體
                                管路新設
                                                                             電解設備            銅管SGS檢測                                                                                                             3
                                              Buffer Tank    Circulation                      純度99.99%                                                                                                  積為 5.5M 。
                                                              Tank
                                                                                            CuCMP                                                                                                     – 電流:電流固定為 250A。
                                                                         [Cu ]~200mg/L
                                                                           2+
                                                                         [H 2 SO 4 ]~5-8%
                                                                                                                                                                                                      – 電極數量:12組電極。
                                                                                                                                                                                                      – 電解終點:硫酸銅濃度1.1g/L。
                                                                                                                                                                                                      – 循環流量:Pump流量40CMH。
                                                                                         2
            歸類上述各種藥劑之效果進行分                   液中求銅系統介紹                          於200A/m ),需要較大之電極
            析:                                                                 面積,且無法在低濃度有效電解                                                                                                         – 批次  :  每種平整劑濃度進行3批
                                                                               回收。                                                                                                                      次測試。
            – 加速劑(Accelerator):反而會使                                                                                                  圖13、聚乙二醇加藥示意圖
                                             系統架構
              銅花生長速度加快                                                       – 為密閉式管狀電解槽,可提供電
                                                                               解液快速攪拌,克服低濃度離子
            – 抑制劑(Suppressor):電解初期           灌充系統                                                                                                            電解還原槽                                    實驗變化參數
                                                                               之質傳問題,可操作於高電流密                                                                              聚乙二醇
              陰極為平面反而會使整體電鍍效                 因應需處理竹科十二吋廠區W-                                   2
                                                                               度(可達800A/m ),大大降低電                                                                                                     平整劑濃度 : 0~227ppm。
              果下降                            CuSO 4 年總產量約為1625噸,扣除
                                                                               極面積,並可有效回收處理至低
                                             十二廠六期廠區本身產量,尚有約                                                                             CCB                                                          為了確保藥劑能夠均勻的混合在硫
            – 平整劑(Leveler):最適合用於避                                              金屬濃度。
                                             1500噸需藉由槽車清運至十二廠                                                                                                                                         酸銅中,選擇將平整劑(聚乙二醇)
              免長銅花的藥劑。                                                       – 陰陽極採管狀設計,電力線分布                                            GC                         循環電解
                                             六期進行處理。                                                                                                                還原原理                              直接加入最後一組電極中並將循環
            目前業界大部分皆為填孔電鍍的應                                                    均勻,電解回收金屬均勻性高,                                                                                                         馬達啟動後一小時後才將電解系統
            用,同時廠內ECP製程也是利用電                 廢液管路                              無尖端效應,並設計可分離式陰                                                  25m 3  25m 3     10m 3          10m 3                  啟動,如此可使平整劑(聚乙二醇)
            鍍法進行電鍍填孔,我們也向ECP                 原先廠內W-CuSO 4 廢液經由Lorry-           極板,利用自動天車取銅容易。                                                                        處理後排放                            均勻地作用在每組電極上,系統進
            RD進行詢問解決方法,但因用途                  out  System清運給處理廠商進行處           – 採模組化設計,擴充容易,電解                                                  Bu er Tank × 2  循環桶槽          反應後桶槽      ECP Tank T460  行加藥並確實記錄各種濃度對於銅
            不同且而且通常都是三種藥劑同時                  理,利用現有的Lorry-out  System          槽採密閉設計,電解過程無酸氣                                                                                                         花產生情形的影響 圖13 。
            使用包含平整劑PEG  (聚乙二醇)、              進行小量修改將W-CuSO 4 經由管路              散問題。
                                                                                                                                                                                                      測試過程中發現加平整劑(聚乙二
            加速劑SPS、抑制劑JGB,因為用                直接送至液中求銅系統 圖9 。                                                                         圖14、藥量不足銅棒內部狀態
                                                                                                                                                                                                      醇)使銅棒內部開始產生變化,下
            途不同藥劑濃度也不同,通常皆為
                                                                             電解原理說明 圖11                                                                                                               列針對各種濃度/藥量產生現象進
            藥商的商業機密,本研究僅需避免
                                             電解設備 圖10                                                                                                                                                 行分析。
                                        [1]
            銅花不需填洞,所以經參考文獻                                                   陰極反應式:
            蘇勇誌,平整劑與加速劑在印刷電                  廠內使用的電解回收設備,有以下                 Cu 2  + (aq) + 2e - → Cu(S)
            路板製程中對填孔電鍍的影響,後                  特點:                             陽極反應式:                                                                                                                   藥量不足(<50ppm)
                                                                                             +
            直接選用PEG進行測試實驗。                   – 傳統平板電極應用於電解回收                 H 2 O(l) → O 2  + 2H + 2e -                                                                                              銅花呈現大塊顆粒且非常堅硬 圖
                                               時,由於電解液攪拌速度限制了                全反應式:                                                                                                                    14,此狀況會迫使維護保養(PM)人
                                               金屬離子傳輸之質傳速率,因此                Cu 2  + (aq) + H 2 O(l) →                                                                                                員無法進行銅花去除,進而必須提
                                                                                        2
                                                                                              +
                                               無法操作於高電流密度(通常低                Cu(S) + 1/2O  + 2H                                                                                                       前將銅棒取出避免連續短路發生。

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