Page 52 - Vol.33

Tech
Notes
技術專文

表 9、單一工程特性創新法則出現頻率分級表 表 12、TRIZ 應用於半導體研發廠空污問題改善對策彙整表

工程參數 等級 編號 研發廠空污問題點 創新法則 類比發想改善對策
A B C D E F G
(19次以上) (16~18次) (13~15次) (10~12次) (7~9次) (4~6次) (1~3次) 1 研發廠區製程機台內空氣 TRIZ#3局部品質 設置現址式處理系統Salix Local Scrubber去除混氣中的酸及氨氣
污染物混合排放問題
TRIZ#35參數改變 變更沸石濃縮轉輪運轉參數(T1/T3/脫附風量)
24 資訊的喪失 10 35 34.26.22. 28.32.19. 02.27.33.13.15.
31.01. 16.23.21.29.08.
04.06.05. TRIZ#39惰性環境 NA
TRIZ#40複合材料 NA

表 10、空污問題一創新法則類比發想對策 2 無法迅速掌握研發廠區製 TRIZ#10預先作用 針對空污定檢項目建置監測計畫，以Online即時檢測為主Offline檢測為輔，
程空污排放物種及排放量 事先量測並改善，避免定檢結果變差
變化
創新法則編號 創新法則內容 類比發想改善對策
3 影響社會觀感的「白煙」 TRIZ#2提取/分離 針對白煙物質高濃度區域，增加現址式空污處理設備或提升既有空污處理
效率
No.10 預先作用(Preliminary Action/ Prior Action/Do It Advance) 針對空污定檢項目建置監測計畫，以Online即時檢測為主，
Offline檢測為輔，事先量測並改善，避免定檢結果變差 TRIZ#21急衝 NA

TRIZ#22轉害為益 NA

表 11、TRIZ 解決研發廠空污排放問題創新法則彙整表 TRIZ#35參數改變 針對現址式空污處理設備IPI-310B+ Local Scrubber、桶槽區Wet Local Scrubber
進行關鍵參數最佳化
編號 研發廠空污問題點 問題描述 待改善工程參數 須避免工程參數 創新法則
4 新製程造成現有空氣污染 TRIZ#10預先作用 建置IC On-line監測系統，配合Off-line取樣，量測H 3 PO 4 與其他有害空氣污染
管制污染物排放的增加 物，即時監控煙囪排放，避免空污定檢結果異常
未來新製程評估Local Scrubber時，需加入量測副產物，提早預測改善
1 研發廠區製程機台 先進製程機台於腔體內混合使用 26.物質數量 31.有害副作用 TRIZ#3局部品質
內空氣污染物混合 酸、氨、有機化學物進入排氣系統 (技術矛盾)
排放問題 中 5 新法規規範有害空氣污染 TRIZ#3局部品質 在既有現址式處理設備去除酸、鹼污染物後，串聯專門針對HAPs重金屬吸
TRIZ#35參數改變 物HAPs-重金屬鈷非零檢出 附之吸附式Local Scrubber去除重金屬鈷
問題
TRIZ#39惰性環境
TRIZ#40複合材料
表 13、鹽酸、氨氣、異丙醇 pKa 比較表
2 無法迅速掌握研發 依照法規規範量測空污排放頻率及 24.資訊的喪失 使用單一工程特性創 TRIZ#10預先作用
廠區製程空污排放 量測項目不足，無法即時取得足夠 新法則方法
物種及排放量變化 排放資訊 Pollutant pKa(望小) HA(M/atm) (望大)

HCl (Acid) -8.00 694.44
3 影響社會觀感的 製程產生矽微粒或桶槽酸氣與氨形 31.有害副作用 22.能源的浪費 TRIZ#2提取/分離
「白煙」 成銨鹽等，造成煙囪可目視白煙 (技術矛盾) NH 3 (Ammonia) 9.33 57.20
TRIZ#21急衝
IPA (VOCs) 17.10 66.67
TRIZ#22轉害為益

TRIZ#35參數改變
4 新製程造成現有空 定檢發現煙囪H 3 PO 4 排放上升， 26.物質數量 使用單一工程特性創 TRIZ#10預先作用
氣污染管制污染物 來源為新製程使用之PH 3 經Local 新法則方法 結果與分析 問題及對策分析 常數(Henry constant; HA)可看出，
排放的增加 Scrubber處理後生成副產物H 3 PO 4 濕式洗滌塔其去除的容易度(容易
5 新法規規範有害空 機台使用有害空氣污染物(HAPs)為 26.物質數量 使用單一工程特性創 TRIZ#3局部品質 問題一、研發廠製程機台內空氣污 →困難)為HCl (酸)>NH 3 (鹼)>IPA
氣污染物HAPs-重金 原料，例如重金屬鈷，而既有空污 新法則方法 創新法則及改善對策 染物混合排放問題 (有機) 表13，因此，在製程混和
屬鈷非零檢出問題 處理設備並無去除重金屬之設計
酸、鹼、有機物的排氣中，相較以
依據前章所述TRIZ流程及分析，針 問題：半導體酸槽機台其製程使用
往排入SEX並經洗滌塔處理，將含
對5項半導體研發廠面臨的空污問 酸、鹼及有機氣體(異丙醇)於同一
IPA之有機排氣排入VEX，經VOC
題，找出12種創新法則解法，並 腔體，造成機台端排氣產生混合排
濃縮廢石轉輪處理後排放是較佳的
等級A為創新法則第10項「事先 Online即時檢測為主，Offline檢測 題二，找到TRIZ創新法則及其對應 依據其創新法則解法分析其改善對 放問題，無法依傳統分流方式解決 空污處理方式，而利用TRIZ#3「局
動作」 (Preliminary Action/Prior 為輔，事先量測並改善，避免空污 之改善方案，對於其餘三項空污問 策，總計提出8項改善對策內容， 空污排放問題。 部品質」創新法則於製程機台出口
Action/Do It Advance)，以此創新 定檢結果變差為改善方針 表10。 題比照相同分析方式，找出其創新 彙整如 表12所示，各項改善對策詳 對策：根據氣體在氣液介面的傳 處，優先設置現址式處理系統Salix
述如下。
法則進行類比發想，制訂針對現行 依據上述方法，已分別將研發廠面 法則及其對應之改善方案，茲彙整 輸速率理論，從酸解離常數(Acid Local Scrubber處理混氣中的酸及
空污定檢項目建置監測計畫，並以 臨的五項空污問題中之問題一及問 於 表11 。 dissociation constant; pKa)及亨利 NH 3 ，避免VEX處理系統沸石濃縮

52 FACILITY JOURNAL DECEMBER 2018 53