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技術專文

表 4、半導體工廠空氣污染物來源 表 5、改善成效 圖5、酸槽機台混排處理方式

定檢 污染 污染來源 污染物 改善項目 改善方法 預估改善 背景值 是否達
項目 物 成效(K/Y) (K/Y) 背景值
酸槽機台混排 先除氨/後除酸
酸/鹼/IPA
V HF Tool Bench tool 五酸 源頭改善 新技術導入-填充層導入高效率蜂巢式濾 10.75→5.38 0.61 N
材，風管型wet LSC (-50%) As Is
FAC 廢水桶槽
WWT Tank建置智慧調節閥、水封箱，廢
V HNO 3 Tool CWR/Etch/EPI parts 水場源頭高濃度酸鹼排氣減量
Clean/Wet Bench 現址空氣處理設備 終端處理設備(SEX)
末端處理 循環水質改善-建置local RO處理系統降低
FAC 廢水桶槽 水中酸離子濃度
鹼 源頭改善 排氣分流-Benchtool (不含IPA)去酸後進入 6.53→2.8 1.35 N
V HCl Tool CWR/EPI/Wet Bench
AEX處理系統 (-60%) 酸槽機台混排 除酸
酸/鹼/IPA
FAC 廢水桶槽/Lorry tank 末端處理 循環水質改善-建置Resin/RO循環水旁濾系
統移除
V H 2 SO 4 Tool Wet Bench/ECP
IPA 源頭改善 排氣分流改善-Benchtool/WWT tank去酸鹼 7.50→2.61 2.69 Y
FAC SCR加藥系統/廢水桶槽 後進入VOC處理系統 (-60%)
V H 3 PO 4 Tool Wet Bench 末端處理 Central Scrubber供應水質改善：MAU air 現址空氣處理設備 終端處理設備(VOC)
washer回收水取代RCW
FAC 廢水桶槽/Lorry tank
有機 源頭改善 建立廠區VOCs排放平衡圖-評估高濃度 10.24→5.12 1.71 N 酸槽機台混排 除酸
Tool裝設Condenser (-50%)
V VOCs Tool Litho/Wet Bench/CWR 酸/鹼
末端處理 VOC潔淨空氣導入脫附段-提高VOC去除率
FAC 廢水桶槽/PV pump
To Be
VOC沸石轉輪參數最佳化-提升T3脫附溫
V NH 3 Tool Wet Bench/ 度、T5脫附後溫度
EPI/Etch/CVD/B.S.
現址空氣處理設備 終端處理設備(AEX)
FAC 廢水桶槽/Lorry tank/
RCW/LSS
圖４、某廠空污排放改善成效
V Cl 2 Tool Etch/DIF 酸槽機台混排 除酸
酸
FAC 廢水桶槽
120
NA SO X Tool NA NMHC
100
NH 3
FAC VOC/LSC燃燒副產物 TA
80 現址空氣處理設備 終端處理設備(SEX)
NA NO X Tool NA
K/Y 60
FAC VOC/LSC燃燒副產物
40

20
製程方式無酸性物質出現於排放管 酸排煙囪有明顯白煙判斷為機台排 外NH 3 及IPA使用水洗式洗滌塔的削
某廠區 2 0 1 8 空污排放量 0 道後，改管至既有之沸石轉輪加 氣酸鹼混排造成氨鹽類結晶發生； 減率受到理論限制，此狀況亦是造
2017 2018 2019 Plan 背景排放量
108→35K/Y，減量67.6%，2019 焚化爐式防制設備進行處理，其 2016年測出某廠酸排氣中IPA濃度 成空污排放問題的原因。由上述狀
預計減量至35→15K/Y，較2018 VOCs總處理效率約可達到95%以 超過5ppm已影響到潔淨室AMC品 況得知混排情形發生於酸槽機台，
再減量66% 圖4 ，其污染物改善方 上，此案例中的異丙醇處理效率可 質，除此之外煙道污染物沒有經過 因而針對機台所使用的化學品種
式於後續舉例說明。 保持在90%以上，有效的削減鹼排 妥善處理後排放確實會造成觀感不 類，區分為三種狀況：
後續經由MiTAP檢測儀器針對IPA 濃度則<50ppb，由前述國內外學
中異丙醇的排放問題。 佳與污染物排放量增加等問題。
進行採樣，發現煙道內之VOCs組 者研究結果可以得知，目前廠區內 – Acid/NH 3 /IPA混排
利用改管解決鹼性氣體排氣中「異 問題：DNS SU-3X00系列機台因
成以IPA為主，故削減IPA為主要改 防制設備現況，中央濕式洗滌塔並
丙醇」排放問題 同一機台分製程進行分流改善酸性 設計製程中HF/H 2 SO 4 /NH 3 /IPA反 – Acid/NH 3 混排
善方向。 不適用於處理VOCs，固然IPA水溶
緣起：某廠區於2017年7月空污自 氣體排氣中「異丙醇」及「氨」排 應均在同一個腔體內發生，原污染 – 各式Acid 排放
性較佳但相對於半導體廠內的污染 放問題
檢發現AEX內VOCs排放平均值達 問題：LAM EOS PS (polymer stri- 物分流方式為採用Switch Box進行
物屬於高風量低濃度，且設計滯留 依據混排差異做不同的分流處理，
34ppm (2016自檢<1ppm)，此狀 pping)為single wafer機台，其製 緣起：2009年某廠開始發現排氣 酸鹼有機尾氣切換，但依據採樣儀
時間約為0.8sec，因而異丙醇於濕 此方式更減少額外添加硫酸造成二
況可能因濕式洗滌塔無法有效處理 程方式為同一腔體內使用鹼性及 風管風門處有結晶狀況，清查後 器對分流後尾氣進行分析，有切換
式洗滌塔的處理效率不佳。 次污染物排放問題 圖5 。
有機污染物導致，有機污染物先經 有機類的化學品，於Tool端AEX 發現酸性排氣風管中NH 3 濃度測值 功能不佳的問題，進而造成酸鹼氨
由THC分析儀器進行總濃度確認， exhaust約有800ppm IPA，而氨氣 對策：與設備合作進行採樣，確認 大於150ppm；2012年某廠發現 鹽，以及酸排煙囪含IPA問題。此 對策：

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