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Tech
                                                                                                    Notes
                                                                                                    技術專文


                                                  TSMC / FACILITY PUBLISHED
           VOL.44
                                                   廠務季刊


                                                     URL.http://nfjournal/



           化學系統濾心污染防治

           Prevention of chemical filter contamination




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                                                               文│羅立偉  鍾易龍  梁高維 │ 日本新廠專案  新廠設計部  台南廠務七部│
           摘要 / Abstract
              隨先進製程技術不斷推進，化學供應品質也面臨挑戰，偵測品質標準中的金屬含量及含不純物成為製程關鍵。既往影響
           產線供應品質汙染源，以原物料及耗材供應商製造與包裝品質異常之案例為甚，又以定時保養更換系統耗材或配件影響風險較
           高。本文以經常性更換之濾心(Filter)借鏡，階段性探討 : ①濾心更換後品質管控(Quality Control)之標準；②新式監控更換濾心
           品質方法及手法；③評估未來新式高潔淨、低汙染濾心，以提升濾心供應之品質穩定度與可靠度，達到降低濾心更換污染防治
           之目標。
           關鍵詞 / 濾心、品質監控、品質分析


              With the advanced process technology, the quality of chemical supply is also facing challenges. The detection of metal
           content and impurities in quality standards has become the key to the process.
              The source of quality pollution in the supply line is the case of abnormal manufacturing and packaging quality of raw
           material and consumables suppliers, and the impact of regular maintenance and replacement of system consumables or
           accessories is relatively high.
              This article takes the filter of the frequently replaced filter as sample, and the first, it discuss the quality control standard
           after the filter is replaced, and the second, the method and technique of changing the filter by new monitoring system,
           thirdly, evaluate the new high-clean and low-pollution filter, in order to improve the quality stability and reliability of the
           filter when it supply.

           Keywords / Filter, Quality Control, Quality Analysis



           1.  前言

              當製程線徑微縮，要求化學品含不純物奈米顆粒尺寸                        晶圓電子束檢測缺陷和晶圓表面殘顆粒量，上述前者影響後
           (Nano Particle Size)和數量(Particle count)日趨嚴格，透過廠   者，其濾心洗淨流程尤為關鍵。濾心殘金屬量源於包材出貨
           務系統或設備機台的多道串聯過濾程序及濾心孔徑微縮來                         品質(COA)，透過廠務系統使用自動化清洗、浸泡和濾酸後取
           提升純化品質；以5nm製程為例：從上游廠務供應系統濾心                       樣金屬殘量檢驗，可解決殘金屬低量濾心，但殘高含量金屬
           20nm~10nm至下游設備機台濾心10~1nm分佈，現況顆粒殘                  濾心，可能因浸酸後金屬析出速率不同、清洗量多寡及排酸
           量僅符合運轉基準，若再降低一倍顆粒殘留數量，現行配置                        開閥次序不同，影響洗淨效果，各廠在清洗量與排酸閥件開
           已無法克服，故廠務系統評估10~1nm濾心，以成為解決顆粒                     關時間和次序已有相當研究，本文將著重於浸酸析出金屬實
           殘量方案。                                             驗做延伸探討和管理洗淨品質。
              安裝於廠務系統新式濾心是否適用於產線，需提證濾心
           洗淨後品質和化學品殘留顆粒量，及試產供應後，配合設備

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