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3.3 不同種類濾膜金屬析出分析
此實驗著重5nm製程量產廠和RD廠，配合WET Clean進行
化學品殘留顆粒量減量評估，導入2nm孔徑PTFE(Entegris ® )、
HAPAS(Pall ® )及同級1nm PS(Entegris ® )濾心，安裝於含氟類
HF1%、HF25%化學供應系統後，依PM O.I.規範洗淨量 : 逆洗
量 : 浸泡量2 : 1 : 1程序(Flush Volume)60L/ea(size : 10吋)和120L/
ea(size : 20吋)，參數設定洗淨以預先充填的排泡(Vent)、排放

圖16、Entegris ® PTFE 2nm濾心型錄 (Drain)和逆洗，由系統磅秤重量(Load Cell)或旁通管(Side tube)
液位高度，紀錄執行上述狀態，於上述程序前需執行手動取
樣，避免未浸泡下和直接洗淨後取樣，僅取得新酸樣品，由台
積電實驗室CHAD以Agilent ICP-MS 8900(Inductively Coupled
Plasma, ion source-Mass Spectrometer, ion analysis)分析濾心13
種金屬元素殘留量，每日執行一次上述動作一次，收集數據至
可上線供應單位。

3.4 濾心使用傳統與新式擾流洗淨程序金屬析出分析
安裝2nm HAPAS(Pall ® )濾心於HF1% CMDU，分別使用傳
統與擾流程序參數設定方式，如 表3，每次洗淨開始及結束
後，需紀錄磅秤重量差，確認是否達洗淨量條件正洗360L、
圖17、Entegris ® PS 1nm濾心型錄
逆洗180L和浸泡，次日執行取樣及委樣至台積實驗室檢測，
並同前日洗淨條件動作操作，觀察金屬殘留至範圍內。
3.2 濾心包裝水金屬殘留量
3.5 HAPAS、PTFE和PS濾心供應試車於晶圓測試方法
於上文文獻回顧提及供應商濾心洗淨不足，新品濾心安
裝於供應系統，恐需長時間洗淨，以去除金屬殘留，因此取樣 濾心洗淨後，需在供應前進行試車(Pre-Qual)，以限時上
於濾心包材內超純水，以驗證此論點；3nm UPE(Entegris ® )濾 線供應方式，測試使用於晶圓後，晶圓透過電子束檢測缺陷
心，將不同批號進行包裝水取樣，委樣至台積實驗室檢測。 和表面殘顆粒量(Inline KLA)確認供應品質，亦或使用粒徑分
析收集(Offline Paticle)酸源殘留顆粒量，此兩道驗證程序可作
為濾心是否可上線供應之依據。

表3、傳統與擾流洗淨程序與參數設定比較示意 圖18與 圖19

Step Step1(sec) Step2(sec) Step3(sec) Step4(sec) Step5(sec) Step6(sec)
擾流洗淨 Vent Vent+ Pipe Drain(點放) Pipe Drain+ Vent(點放) Vent+ Pipe Drain Drain+ Pipe Drain(點放) Pipe Drain+ Drain(點放)
60sec 60sec 60sec 60sec 60sec 60sec
傳統洗淨 Vent Drain Pipe Drain - - -
120sec 120sec 120sec - - -

圖18、擾流洗淨程序

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