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VOL.52 廠務季刊 品質監控_化學研磨液系統分析儀器突破性發展

分析儀原理介紹

3.1 化學品 Pot Life 分析儀 (CPL)

化學品Pot Life 分析儀(CPL)的原理(圖3)是採用檢測 Zeta 電位的改變，而聚集變成大顆粒的粒子，易造成
[01]
膠體溶液固體粒子的廷得耳效應(Tyndall effect) : CMP 製程對晶圓表面的刮痕，觀察 CPL 的光學反應
在光的傳播過程中，光線照射到粒子時，如果粒子大 即可監測 CMP 研磨液中研磨粒子的尺寸變化，可用
於入射光波長很多倍，則發生光的反射；如果粒子小 來確保 CMP 研磨液的品質，維持 CMP 製程的良率。
於入射光波長，則發生光的散射，這時觀察到的光波
環繞微粒而向其四周放射的光，稱為散射光或乳光，
廷得耳效應就是光的散射現象或乳光現象。CMP 研
磨液中的研磨粒子會於輸送過程中因剪應力、pH &

圖 3：CPL 原理示意圖

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