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F14P2 /
廠區 F12P1 F12P2 F12P4 F12P5 F14P4 / F15P1 F15P2 Future
F12P3B
廠牌 / 型式 KCH / 臥式 晃誼 / 臥式 晃誼 / 臥式 晃誼 / 直立式 千附/立式 晃誼 / 直立式 晃誼 / 直立式 多段臥式
處理風量 90,000 CMH 108,000 CMH 120,000 CMH 120,000 CMH 120,000 CMH 120,000 CMH 120,000 CMH 70,000 CMH
4.87 m 5.3 m 5.3 m 7.0 m
L
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L
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W
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W
H
H
H
W
H
本體尺寸 3.85 m 3.85 m 3.85 m Φ4.3 m*6.6 m Φ4.3 m*7.2 m Φ4.2 m*6.6 m Φ4.2 m*8.0 m 2.8 m
H
H
H
H
4.4 m 4.1 m 4.4 m 3.3 m
填充材型式 VSP-50 2" 蓮花型 3" 蓮花型 3" 蓮花型 3" 蓮花型 3" 蓮花型 3" 雙蓮花型 2.5" 雙蓮花型 2.5"
2
2
2
2
比表面積 100 m /hr 92 m /hr 92 m /hr 92 m /hr 97 m /hr 92 m /hr 148 m /hr 148 m /hr
2
2
2
2
填充層厚度 1.35 m 1.8m 2.0m 1.6m 1.5m 1.7m 1.2m 1.8m
段數 單段 單段 單段 單段 單段 單段 雙段 雙段
10 HP x 2台 10 HP x 4台 10 HP x 4台 10 HP x 4台 10 HP x 4台 10 HP x 4台 10 HP x 5台 15 HPx6台
循環泵
(1+1) (3+1) (3+1) (3+1) (3+1) (3+1) (4+1) (2+1)x2
灑水層
第一層 填充層上方 入口處 入口處 填充層上方 填充層上方 入口處 填充層下方 填充層上方
第二層 - 填充層上方 填充層上方 - - 填充層上方 填充層上方 水霧處理
梅花型 2" 梅花型 2"
除霧器型式 Pall ring V-38 梅花型 2" 梅花型 2" 梅花型 2" 梅花型 2” 梅花型 2"
板式除霧器 板式除霧器
氣流均勻
分配器 無 無 無 無 無 無 有 無
HCL. HF. >96% at 100 ppm
HNO 3 . >97% at 10 ppm >97% at 10 ppm >97% at 10 ppm >97% at 10 ppm >97% at 10 ppm >98% at 10 ppm >98% at 10 ppm
or
H 3 PO 4 出口符合 or or or or or or or
設計去除 環保法規 Outlet < 300 ppb Outlet < 300 ppb Outlet < 300 ppb Outlet < 300 ppb Outlet < 300 ppb Outlet < 200 ppb Outlet < 200 ppb
效率
表三、十二吋晶圓廠區洗滌塔比較表
圖八，主要架構介紹如下： 參考文獻
● 第一階段，針對排氣中氣膠顆粒、
鹼性排氣進行填充段水洗處理。
[1] Copper, C.D.; Alley, F.C. Air pollution Control: A Design
● 第二階段，針對排氣中酸性氣體進
Approach, 2nd Ed., Chapter 13, Waveland Press, America,
行填充段水洗處理。
1998.
● 第三階段，針對前兩階段未處理的
[2] Davis, Wayne T. 1999, Air Pollution Engineering Manual,
低濃度污染物，以較潔淨之水霧進
2nd Ed., John Wiley and Sons, Inc.
行處理，並強化末端除霧效果，有
[3] Joseph, Gerald T., P.E. & Beachler, David S. 1998,
效截取氣態的污染物及液態的污染
Scrubber System Operation Review, 2nd Ed., North
物。
Carolina State University.
[4] Whitman, W.G., The two-film theory of absorption,
Chemistry and Metal Engineering, 29 (1923), pp. 147-157.
結論 [5] Worsnop, D.R., Cahniser, M. S., Kolb, C. E., Gardner, J.
A., Watson, L. R., Van Doren, J. M., Jayne, J. T., and
隨 著製程不斷進步，空污處理系統 Davidovits, P., 1989, Temperature dependence of mass
規格亦須隨之升級，短期將持續
accommodation of SO2 and H2O2 on aqueous surface, J.
加強濕式洗滌塔的去除能力，長期更 Phys. Chem. 93, 1159-1172.
希望能夠以更新穎的技術取代傳統洗 [6] Zarzycki, R.; Chacuk, A. Absorption: fundamentals &
滌塔的處理方式，並同時兼顧合理的 application, Pergamon Press, New York, 1993.
成本控制與降低能源消耗，以符合社 [7] 半導體製造業空氣污染管制及排放標準，環保署。
會大眾之期望及公司的永續發展。 [8] 高科技產業常見之空氣污染防制問題分析及建議─無機
酸，白曛綾。
NEW FAB TECHNOLOGY JOURNAL APRIL 2012 41