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Tech
Notes
技術專文

Exploring the

Methodology of

Air Pollution

Prevention

in R&D Fab

探索研發廠空污防制對策之方法論

現今半導體製程發展一日千里，研發廠所面臨的空污排放問題，在處理防制上已是越來越困難了，其原因
主要為研發廠空污問題具多變性及未知性，多未能有良好的空污處理經驗以茲依循，另因應研發製程的需
求迫切，可擬定空污防制對策的時程太短，因此，為探索研發廠空污防制對策之方法，引用目前學界及業
界廣為推廣的 TRIZ 創新問題解決理論，透過 TRIZ 的創新方法，進行研發廠空污排放問題的個案分析，在
分析目前半導體研發廠面臨的五項空污問題後，找出十二種創新法則解法，並依據其創新法則解法，擬定
出八項空污防制對策。總結本文除有效將 TRIZ 創新問題解決理論成功應用於空污防制對策上，並提供研發
廠後續解決各項空污排放問題一個有效且快速的方法，而擬定出的空污防制對策亦可供後續新建廠設計及
運轉廠區之參考。

關鍵詞／萃思、空污、矛盾矩陣、工程參數、創新發明法則
Keywords/ TRIZ, Air Pollution, Contradiction Matrix, Engineering Parameters, Inventive Principles
文│王若杰│竹科廠務三部│

前言 排，揮發性有機物排放量偏高，管制污染物排放
量偏高，重金屬排放偏高，白煙、異味等社會觀
目前研發廠空污排放問題 感，以及無法迅速掌握製程空污排放物種及排放
量變化等量測分析問題等，將其彙整如 表1所示。
隨著半導體製程的快速演進，新化學品使用幾乎
是以一天一劑的速度在成長，這些新製程及新化 既有廠對於空污問題的防制，往往都是憑藉著工
學品不斷的推陳出新，除造成研發廠空污排放處 程師過往的經驗，但研發廠面臨的空污問題，多
理越來越困難外，更讓研發廠區面臨空污排放量 是以往未曾遇見的，因此，工程師只能在不斷的
或濃度可能超標的風險。目前研發廠所看到的空 嘗試錯誤中找尋對策，此方法不但曠日廢時，更
污排放問題，主要包含酸、鹼、有機排氣等混 造成金額的浪費。雖然目前研發廠空污排放的各

王
台灣大學農業工程研究所畢業。
若 杰
2000 年加入台積電，從 12 吋廠建廠到運轉已接近 20 個年頭，
很榮幸能與一群志同道合的夥伴，一同參與了公司的成長，也感
念公司帶給我最好的生活。
Roger Wang

44 FACILITY JOURNAL DECEMBER 2018 45
竹科十二廠六期空氣污染防制處理設施