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Tech
Notes
技術專文
圖9、採樣工具：canister、impinger
4. 結果與分析 MAU MeCl2 chart
10 ppb
我們通過長期觀察，根據某些具體案例的對比和研究
，來分析其表現的根因。
案例一： 2019年5月10日，MeCl2讀值peak10ppb以
上，如 圖10，根據廠內佈點對廠區進行採樣分析，發現來
源為廠內，如 圖11。
顯示發現在煙囪區域最高值為45ppb，遠高於其他環 圖10、MeCl2 chart升高至10 ppb以上
境區域，可能為MeCl2升高來源。
接下來進一步對各類煙囪環境，如 圖12，進行採樣，
採樣結果發現SEX-112的出口值為15ppb，採樣結果，如
圖13，明顯高於其他出口濃度，說明可能是某些地方的污
染通過煙囪排放對外氣造成了污染。
根據工廠設計架構，在FAB整個建築內的空氣流動，
迴圈方式通過「4F MAU補充新風→各環境exhaust排出氣
體→匯入central scrubber→屋頂煙囪排放至大氣」的過程
保持，過程示意圖如 圖14，SEX-112的使用端為FAB LB10
，可能為MeCl2產生升高的來源，為此我們需要對地下室
佈點進行採樣確認。
地下室由於存在有機溶劑施工及大量有機溶劑暫存區
，如 圖15，我們對施工環境和暫存分別採樣分析，得到結
果，如 圖16，可以確定MeCl2升高的來源是施工有機溶劑
產生。 圖11、廠內採樣情況
因為得到結果有機溶劑是廠內影響MeCl2升高，我們
針對廠區內有機溶劑進行普查，在全廠區共70種有機溶劑
的分析中，有50種溶劑不及格，MeCl2數值>5ppb，其中
以稀釋劑、噴漆、清洗劑最為嚴重，如 圖17所示；
可以看到，與臺灣廠不同的是，南京台積電的有機溶
劑施工材料多為大陸品牌，雜牌現象嚴重，多數材料AMC
均不適用於半導體產業，因此我們有必要對有機溶劑的施
工做進一步加強。在原施工管制的基礎上，我們增加對於
圖12、屋頂煙囪分佈情況
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