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技術專文

表2、流孔板壓力流量對照表 [04]
0.5m m= 0.02 in

Purgeg as pres.: 90 psig Flow rate:1 5.2s lpm

圖6、小型純化器去水效率實驗系統圖

實驗結果如 圖7所示，GN 2 在未經純化器狀況下，水分濃
度會趨於穩定在9至13ppb之間，而將GN 2 通過純化器後，水分
濃度值有略微下降至6ppb，去除效率約為49.2%，可看出純化
器確實有效果，但由於流量已超出原廠建議範圍，使得水分去
除效率不甚理想。最後則是將通過純化器的GN 2 流量，加以控
制在8slpm下，可看出水分濃度則明顯下降至0.15ppb，去除
效率達99%。綜觀實驗結果可知，目前氣櫃所用之流孔板，其
控制之流量仍過高，影響純化器效率，但若將流量加以控制在
10slpm之下，純化器可保有相對佳的水分去除效果。
另外，由 圖5可知純化器有一定的使用期限，然而廠區
內並未針對其有規範出特定的更換週期。本研究雖未針對廠
內使用超過一定年限之純化器進行是否飽和的實驗測試。但
純化器在使用長時間下達飽和而降低純化效果，在不久的將 圖7、10% He/N 2 純化器水分去除效率實驗結果
來仍是可預期發生的狀況，故建議後續需針對10% He/N 2 純化
器的更換列入氣櫃的定期保養項目。

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