Page 135 - vol.49
P. 135
TSMC/ Facility Published
建廠時期之背景資料與監測規劃
2.4 土壤及地下水整治技術發展趨勢 3.1 場址背景資料
土壤及地下水整治工法當中需考量污染物質的特性、濃 本場址為高雄市某一煉油廠外之綠地場址,如圖1 所
度、整治時程與經費最終考慮整治成效,亦需考量環境 示,場址東南側為煉油廠、西側 50 公尺為居民住宅
相容性以及民眾接受度等因素調整整治工法。由於現 區,該社區居民用水皆系採用自來水,並無抽取地下
今職場較長應用之整治工法,依污染處理機制之空間 水之用。高雄廠為過去台灣中油公司最主要的石油煉
位置而設定,區分為現地整治 (in-situ remediation)、 製廠之一,前身為日治時期於台灣設立的日本海軍第
離地 / 現場整治 (ex-situ/on-situ treatment) 以及離場 六燃料廠,戰後由政府接收重整修繕,於民國 35 年
整治 (off-site treatment)。另,整治的原理包括物理 正式成立,主要業務包括煉製各類石油製品及石油化
處理 (physical remediation) 有機物亦被用來吸附及 學基本原料,為國內南部最重要之石化產業上游重
[06]
沉澱地下水中之重金屬及營養鹽等物質 、化學處理 鎮,於民國 91 年發生 P-37 油槽不慎漏油事件,導致
(chemical remediation) 將化學氧化劑注入地下污染 周遭土壤及地下水受到污染,環保局遂於高廠內外進
區,經由破壞或轉化污染物,並降低其質量、移動性及 行污染查證工作,並依查證結果陸續公告廠區為污染
[05]
毒性的方法 。及生物復育 (bioremediation) 為最自 場址,由於高廠歷年運作之化學品種類甚多,但油品
[08][09] [03][04][05]
然的淨化程序 。等技術 。土壤及地下水污 往往有類似之外觀與理化特性,造成污染原因研判時
染場址整治技術種類繁多,以整治工法可分為三類:➀ 之困難。高廠內可能造成污染的化學物質主要分佈在
移除污染物或轉化為無害物質;➁是防止污染物釋出; 儲槽區與工廠製程區內,經調查儲槽區各油槽內的貯
➂是減少污染物釋出。每種方法必須依據整治場址的需 存物以及製程工場內主要的原料及產品,根據其運作
求與現地情況,應用最適的方法加以整治才能獲得最大 或貯存之相關位置,與土壤採樣資料加以比對,有助
的效益。 於推測各區域可能之污染原因。
圖 1: 計畫場址地理位置圖
���