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TSMC/ Facility Published

圖 2：氨氣於不同 pH 下之分相濃度

計畫方法

半導體廠中污染物主要來自製程機台、廠務端桶槽、 析手法釐清污染來源，配合送酸紀錄由洗滌塔入口、
氣瓶櫃及前端廢氣處理設備 (Local scrubber, Salix, 風管支管、溯源至機台端風管進行盤查並對症下藥，
wet scrubber) 等等，廢氣經由支管、主管最終銜接 水體則請廠區水課協助以氨氮分析儀量測水中氨氮濃
至處理系統 (SEX, AEX, VOC) 後依廢氣特性經不同方 度，於有限的資源、時間成本限制在不新設硬體前提
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式去除排放至環境 ( 圖3) 。為進行煙道氨氣排放 下，依靠洗滌塔可操作調整之參數最大化改善效益。
量改善，本文依量測位置不同，氣體以簡易的 SPM
Flex 紙帶式氣體偵測器或 API 氣體分析儀作為量測分

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