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Tech
Notes
技術專文
生的磁場污染,這些新發明將先逐
表一、極低頻 ELF(1Hz -1k Hz) 範圍 5 個等級的機台磁場規範
步試用於即將完工的十二廠六期及
十五廠二期。
Level A ELF of less than 0.25 mG rms (0.7 mG pp)
Level B ELF of less than 0.50 mG rms (1.4 mG pp)
Level C ELF of less than 1.00 mG rms (2.8 mG pp)
計畫方法
Level D ELF of less than 2.00 mG rms (5.6 mG pp)
關於生產作業機台彼此之間的電磁
Level E ELF of less than 2.00 mG rms and greater
干擾未來應該依照 SEMI E33-94 的
規範等級,來要求生產作業機台至
少達到 Level C 或 D 以上方可置入
圖三、etching 機台磁場衰減距離測量與其結果 無塵室作業,好比家用電器也必須
符合電器 EMI 規定才能上市販售,
例如電視收音機音響需符合 EMI 國
240
際 標 準 CISPR Pub. 13 [2]。 目 前
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也可透過幾個方式來減少機台彼此
200
之間電磁波的影響,其中最容易的
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方式,可將有較強輻射磁場機台的
160
電源供應開關面板轉向,舉個實例 :
140
磁場 十二廠五期三樓 HPCD02 裝機測
120 試完的影像不夠清晰,經查明是受
100 到後面 HPBD02 的分離式 IP rank
(mG)
80 的電源影響,只要將此機台高磁場
60 的面板轉到另一邊,磁場大小立刻
40 從 130mG 降低到 5mG。
20 另外就是本篇所要探討的主題 -
0 研究機台所輻射出磁場的衰退距
0 0.6 1.2 1.8 2.4 3 3.6 4.2 4.8 5.4 6
離,目的有二 : 一、可確定機台
距離 (m)
彼 此 之 間 的 EMC(electromagnetic
compatibility) 安 全 距 離, 二、 可
依此磁場的衰退距離使無塵室內機
如 下:“The purpose of this equipment, and infor mation 台的佈置空間利用最佳化,因為除
specification is to assure that technology equipment.” 了用屏蔽的方式, 增加污染源與受
semiconductor manufacturing 害者彼此之間的距離也是一種有效
facilities and the equipment used 減少電磁干擾方法,可是無塵室空
由上述原文便可知無塵室內有兩大
for manufacturing semiconductor 間寸土寸金,如何能讓機台不受電
磁場來源 :
devices will operate together 磁干擾的空間利用最佳化,唯有透
一 . 生產作業機台;
reliably without failures caused 過對機台所輻射出磁場的衰退距離
二 . 廠務設施例如電纜線變壓器等。
by electromagnetic interference 研究方可找出答案。筆者在十二廠
關於後者廠務設施的磁場污染源, 五期機台剛開始裝機時測量某些產
or electrostatic discharge. This
新工處已研發隔磁高架地板 ( 不論 生高電磁波機台其磁場衰減與距離
g oal i s g ener a ll y known a s
盲板或蜂巢板均可達 90% 的屏蔽 關係 [3],結果如 圖三所示。此測
"electromagnetic compatibility" or
效果 ),並搭配電纜線鏡像對稱排 量條件必須是機台附近無其他機台
EMC. This specification applies
t o fa ci l i t i es a nd equi p ment 列 ( 在十五廠一期 CUP 初步測試至 (至少 6.0m 等於 10 個高架地板
constructed for the purpose of 少可較原來電纜線排列所產生的磁 長度)以免測量值被影響。
manufacturing semiconductor 場減低 50%),另外透過選購與廠
devices including all facilities alarm, 商共同開發的 360KVA-433A 型隔 為計算出磁場強度與距離關係,計
safety, communications and control 磁變壓器 ( 變壓器正上方 3.0 m 的 算時利用電磁學原理只考慮最主要 :
systems, processing equipment, 磁場由原來 >20mG 降低至 <2mG 畢奧 - 沙伐特定律 [Biot-Savart Law
metrology equipment, automation 的方式來降低上述因廠務設施所產 dB=μo‧I‧dL×R/(4π‧ R )],
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