Page 36 - Vol.10
P. 36
Tech
Notes
技術專文
文│黃介然│廠務設計部│
On-Site Fluorine
Generator
- a Low-cost and High-
productivity Green Approach
低成本與高生產力的綠色製程
─現場製氟技術
氟氣 (F 2 ) 已在半導體工業中廣泛使用多年，主要應用於製程設備反應腔室 (Chamber) 的清潔，由於
氟自由基 (Radical) 可與沉積的薄膜 (Si, SiO 2 , Si 3 N 4 , SiON, W, WSix, TiN, Al 等 ) 與有機污染物發生反
應形成揮發性化合物，可以很容易地經由幫浦被抽走。三氟化氮 (NF 3 ) 的導入使用是為了要取代四
氟化碳 (CF 4 ) 和六氟化硫 (SF 6 ) 這兩種京都議定書 (Kyoto Protocol) 列管的溫室氣體，用來提高清潔
效能和對環境的保護。但諷刺的是 NF 3 也即將被列入京都議定書遺漏掉的溫室氣體列管，近期的測
量也顯示了大氣中的 NF 3 含量呈現指數級的增長，目前處於和 CF 4 和 SF 6 相同的狀況。氟的自由基
可以進行蝕刻和清洗反應腔室或晶圓的沉積物，氟氣的全球暖化潛能值為零，因應全球氣候變化與
符合綠色製造，同時為了確保穩定的系統供應，現場製氟 (On-site Fluorine Generator) 是目前可行的
選項之一。本文將概述現場製氟技術，以及其可替代 NF 3 所帶來的潛在好處。
36
