Page 54 - Vol.10
P. 54
Tech
Notes
技術專文
1
1
2
2
2
文│徐銘宗 江宜蓁 謝欣容 │ 新廠設計部 十二 B 廠廠務工程專案│
Advanced Chemical &
Slurry Supply with
Particle Control
先進半導體廠化學品
供應系統及微粒子控制
本文將討論半導體廠化學品及化學研磨液供應系統微粒子控制的設計和改進的方向以及未來的晶圓
廠化學品及化學研磨液供應系統新挑戰。其次，研究化學研磨液顆粒大小和穩定性，以管理研磨液
使用時間、減少缺陷，特別是大顆粒粒子（LPC）在研磨過程中所造成的損害。
54
