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Tech
Notes
技術專文

圖二、離子交換樹酯純化示意圖

+
SO 3 -H + SO 3 -Na + H +
+ Na +
Fluid Flow
IN OUT + 2+ +
SO 3 -H SO 3 -Ca + 2H
+ Na +
Grafting Chain
Ion Exchange Group
Metal lons +
SO 3 -H SO 3 -
Substrate

磁浮泵提供技術的優勢，提供高流
圖三、以磁浮泵供應化學品之設備
量及準確壓力控制，降低閥操作頻
率。缺點是磁浮泵會造成化學品循
Return from POUs 環發熱。因此磁浮泵的主要設計是
Dispense to POUs 用於大用量供應或迴路供給，在設
計上需藉循環回桶槽時用新鮮的化
學品冷卻泵的熱能，如 圖三所示。
如需溫度精確控制，則需加裝熱交
Pump 換器，以嚴密控制溫度。此外，在
Pump 供應系統使用短循環或大迴路設
計，可以連續過濾化學品提高微粒
Filter
Filter 子的品質管控，並且提供了一個更
好的環路壓力控制。
過濾為一重要的技術，化學品原物
料在某種意義上被認為是“未清潔
的”，因為它可能含有大量的污染
微粒，無論是桶裝或槽車供應化學
品，需要建立清潔的化學品路徑，
圖四、刮痕的數量與研磨液 LPC 比值之關係 (from The Electrochemical Society) 在供應到工廠之前，它需要通過濾
心進行循環過濾純化。最近的過濾
器具有低壓降和預潤的特點，對於
300
20 奈米及以下粒子有較高的去除
250 率。在化學品精製純化趨勢下，已
LPC ≥ 0.839 m 使用專屬的濾心循環來過濾原物料
200
Scratch Counts 150 化學品，而供應端也會使用另一組
濾心分離。
100
LPC ≥ 0.469 m
50
0
0 1.7×10 3.4×10 5.1×10 6.9×10 8.6×10 化學研磨液混酸及
Fraction of LPC (# of LPC/total # of Particles)
供應設備

過去的十年裡化學研磨液最主要的
為了符合新規格，化學品及研磨液 量和嚴格的壓力控制使用點。此 進步是化學研磨液本身，研磨液材
供應設備由隔膜泵演變為應用磁浮 外，壓力供應系統還解決一些重大 料成為一個更複雜的固體懸浮液及
泵及氮氣壓力供應。氮氣壓力系統 問題，諸如降低壓力的衝擊和壓力 添加劑化學品混合液。要處理和混
的好處是兼容大部分的化學品。除 波動，可提高過濾器效能及減少微 合這些新的研磨液材料，必須諮詢
減少化學品消耗，它可以處理高流 粒子的產生等。 研磨液製造商處理程序。如果沒有

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