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表一、化學品供應系統

保持研磨液粒子分佈穩定。 已經演變成複雜的系統結合控制及
前言 – 混酸化學品濃度品質具有較高的 管路設計，包括使用高純度 PFA
準確性和再現性，提供更高的流 的材料，更耐化學侵蝕及耐溫度變
量。 化，並減少離子污染和微污染顆
近幾年來隨著我國積體電路產業的
粒的產生。在閥件方面的演進包括
蓬勃發展，加速了我國半導體相關
PFA 材料的升級及液流道優化，除
產業國際競爭力，目前製程能力已
了減少無染物外，還能延長使用壽
朝向 28 奈米和 20 奈米的先進技
命。監控設備也變得更準確、更快
術推進。雖然半導體生產所需化
學品及研磨液僅佔生產比例一小部 化學品供應系統 速的反應、以及提供良好的人機介
面。
份，但其純度及品質卻直接影響到
最終產品的良率和元件的品質暨可 化學品供應系統如 圖一所示，其最 未來的化學品供應設備的另一個關
靠度，因此其重要性不容輕忽。 大的挑戰之一是，必需大幅減少污 注點是其可靠性，盡量減少失效機
半導體廠所使用的化學品及研磨液 染物離子和顆粒的產生，並增加其 率，並提昇不中斷地運轉的時間。
之供應系統，過去幾年其設計依循 工作可靠性，以及提供長時間不中 對於新的挑戰，新設備必需：
晶圓廠生產機台的需求持續演進， 斷的運轉。由於任何化學研磨液的 – 增加流量
以符合製程生產需求之使用量、流 變化均可能會影響化學研磨製程的
量、壓力、品質等。新的需求可歸 效能，對於化學研磨液設備，除了 – 更嚴格的 POU 壓力控制
納如下： 可靠性外，控制顆粒分佈穩定、pH – 精確的監控
– 增加系統的可靠性、更佳的使用點 值、懸浮固體含量是為重要的課 – 系統的可靠性
流量與壓力穩定。 題。 – 去除金屬離子與粒子及其品質控
– 減少化學品離子和微粒污染物， 完整先進化學品和混酸供應設備， 制，如 圖二所示

徐銘宗 M.T. Hsu 江宜蓁 I-Chen Chiang 謝欣容 Stephanie Hsieh

NEW FAB TECHNOLOGY JOURNAL JUNE 2013 55