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Tech
Notes
技術專文

磨液的管理就顯得十分重要。
圖八、界達電位熟成時間（上圖），及其與移除率之關係（下圖）
此外，經由幾個桶槽之間切換，可
連續供給研磨液。批次混合是最常
Zeta Potential @ Mixing Tank 見的技術，即使一些即混即供的混
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Zeta Potential (mV) 8 21-Nov 合技術最近已經出現。批次混合仍
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具有優點，可允許一些備份存儲，
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有兩個主要的方式可替代批次混
22-Nov
6
合：
23-Nov
5
4
3 – 研磨液在一個桶槽混合，然後使
用泵輸送到供應槽 圖九 。
2
1 – 研磨液使用混合／供應兼用的桶
0 槽。至少兩個桶槽，每個桶槽交
0 2000 4000 6000 8000 10000 12000 替使用於混酸供應。當一個桶槽
Time after mixing (min) 是在供應模式，第二個是在混合
模式下，或在等待模式。
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PSG RR (A/min) 55 Mixing Mixing 8H Mixing 16H Pre-mixing>48H 第二種替代方法具有的優勢來管理
>19H
研磨液壽命。當桶槽完成其供應步
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驟，它可以使用純水清洗，並準備
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40 混酸步驟。我們可以決定啟動或延
遲時間，以更短的混酸後等待時
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Var.~5 Var.~8 Var.~6 Var.~3 間，讓研磨液盡可能保持新鮮度。
30 供應研磨液的另一種方式是使用線
2/29 3/3 3/6 3/9 3/12 3/15 3/18 3/21 3/24 3/27 3/30 4/2 4/5 4/8 4/11 4/14 4/17 4/20 4/23 4/26 4/29 5/2 5/5 上混合技術 (static Mixer)，在供應

端 (POU) 線上即混即用，線上混合
有幾個優勢。
圖九、研磨液供應系統 – 多種原液混合配比容易，混合比
例可變化設定
– 研磨液新鮮混合，即混即用，混
合快速
– 研磨液混合過程無剪應力，無泡
沫產生
Online Dilution – 混合比例濃度精確
– 無機械裝置，低故障
研磨液供應技術最重要的方面之一
Storage Tank Day Tank 是輸送環路，研磨液根據一定的流
速範圍需要不斷再循環。供應方式
包含單管迴路及雙迴路。
新的研究利用超音波震盪器，將凝
聚研磨粒子再重新分散， 圖十為超
Pump
Unit 音波震盪器組裝的方式，可組裝在
桶槽內或外掛在循環管路或是連續
流動的管路上。
49%HF CDS Blends Storage Autotitrator Day
Tank Tank 圖十一為目前初步進行超音波震盪
器的研究結果，有效將凝聚粒子轉
變為工作粒子 (working particle)，
且研磨液之粒徑有顯著的改善。不
圖八說明部分的研磨液其界達電位 在混合研磨液時，須有一定的熟成 僅能改善大顆粒子數 (large particle
(zeta potential) 與 移 除 率 (removal 時間 (aging time as conditioning)， counts)，過濾時亦能降低濾心的負
rate) 有明顯的關聯，研磨液在高界 界達電位才能達到平衡。所以，利 荷量，未來若能引入研磨液供應機
達電位時有較高的移除率；然而， 用分析儀器檢查的研磨液品質，研 台內，對於線上良率將有莫大的助

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