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圖一、AMC 五大類 [1] 圖二、潔淨室 AMC 去除設備與量測儀器位置示意圖

IC IC
MA (Acid) MB (Base)
NH , Amines Outside Air
HF, HCl, HBr, SO , NOx
LRF
HCOOH, CH COOH O
無機酸、有機酸 Chemical
N CH Filter Fan Air Washer
TS/NH 3 TS/NH 3

ME (Else)
外氣空調箱機房
未分類干擾氣體
SF , N O, CF L40 TAPI TS/NH 3 Analyzer
Chemical Filter
(特殊強項)
Fan Filter Unit
Return Air Shaft Calamity
TOC HCl,NF3 VOC MA,MB,MC Fab
GC-MS ICP-MS L30 Portable-PID Impingers Purge Fan
MC (Condensable) MD (Dopant)
O Phthalic
O B, BF , B H
anhydride
O
P, PH Clean Sub Fab
O As, AsH
O CH DBP L20 GC-FID IMS Purge Fan
O CH
O

前言 match)，如期讓設備進行裝機，達 磷、砷等；以及其他未分類物 (no
到製程生產的目的。 classes)。

半導體製程中的潔淨室所能容忍的
汙染物濃度極低，但在建廠期間因 AMC 種類 環境監控儀器
為各種施工（例如土建工程及內裝
材料等）釋出大量汙染氣體，對於
氣態分子污染物歸納為五類，如 建廠時期，妥善應用偵測潔淨室環
廠房的環境品質有嚴重的影響。為
圖一 所 示， 其 定 義 為 酸 (Acids， 境汙染的監控儀器，無論在定性與
了在建廠完成後順利移交工廠運
簡 稱 MA)： 包 括 鹽 酸、 硝 酸、 硫 定量皆能有效掌握發生的時間與頻
轉，必須有效應用即時儀器量測系 酸、 氫 氟 酸 等； 鹼 (Bases， 簡 稱 率，透過分析結果可以全盤了解空
統 (Inline monitoring system) 以 及
MB)： 包 括 氨、HMDS、TMAH、 氣品質的控制方向，進而快速建立
人 工 採 樣 分 析 法 (Offline analysis) NMP 和 胺 (amines) 等； 可 凝 結 物 優良的環境。有關各種儀器的介紹
之監控儀器，完整地掌握汙染物種 (Condensables， 簡 稱 MC)： 指 常 如 表一所示。
類與濃度分布，進而協助工程人員 壓下沸點大於室溫且會在表面凝結 潔淨室欲形成循環氣流，必須透過
執行有效的改善對策，提早讓新 的化學物質，但不包含水；摻雜物 外氣空調箱建立的外部循環以及風
廠潔淨室 AMC 降低到既有廠的基 (Dopants， 簡 稱 MD)： 可 改 變 半 機過濾機組維持的內部循環，如 圖
準規範值 (Baseline and one sigma 導體物質之電性的化學元素如硼、 二所示。圖中明確標示各監控儀器

信心、毅力與 世界上有兩件事 擔任工地專案經理多
裕 欣 勇氣三者具備 建 國 李 J. G. Lee 不能等： 鈺 洲 蘇 Y.C. Su 年，工作之餘，喜歡
則沒有做不成 一是「孝順」， 研讀易經，從中看懂
的事。 二是「行善」。 錯綜複雜的人事物
黃 Y.S. Huang

NEW FAB ENGINEERING JOURNAL SEPTEMBER 2014 83