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Tech
             Notes
             技術專文


             圖4、AlPAD機台維修保養過程FTIR監測HCN/CCl 4 濃度變化                                                                                    圖6、Metal gate1、Metal gate2 維修保養過程HF濃度變化


                 25                                             5                                                                         12                                            12
                                                                                                                                                     chamber lid開啟
                                                   HCN                                           CCl4                                     10         HF: 10.8ppm            Metal       10    Metal
                 20                                             4                                                                                                           gate1             gate2      chamber lid開啟
                                                                                                                                                                                                         HF: 8ppm
                                                                                                                                          8                                              8
                Conc., ppm  15                                 Conc., ppm  3                                                             HF (ppm)  6 4                                  HF (ppm)  6 4

                                                                2
                 10
                                                                                                                                          2                     clean chamber wall       2
                                                                                                                                                      10 mins   0.4ppm
                  5                                             1                                                                         0                                              0
                                                                                                                                          11:15  11:44  12:13  12:42  13:11  13:39      09:29:57  09:44:21  09:58:45  10:13:09  10:27:33
                  0                                             0
                  11:15  11:44  12:13  12:42  13:11  13:39      11:15            12:27            13:39
                                  Time of hh:mm                                   Time of hh:mm
                                                                                                                                     圖7、工程控制示意圖


             圖5、測試BCl 3 前處理次數增加濃度變化圖



                    Max. 24.2 ppm
               25
                          Clean
                         E-chuck
               20
                                           Max. 8.7 ppm
               15
                                              Clean   Clean
               10                            E-chuck  Chamber     Max. 2.7 ppm
                                Clean
                                                                           Clean
                                                               Clean
                               Chamber                        Chamber      E-chuck  Clean Chamber
                                                                                    HCN: 0.8 ppm
                5                                                                               TLV 4.7 ppm                            測漏 manual valve                                 由 shower plate 上方小孔進氣
                                                                                        Max. 0.5 ppm
                0
                          Original            Clean 3 times         Clean 4 times        Clean 5 times
                                                                                                                                     時濃度最高可達10.8ppm,metal             AHQ inh =0.74/0.24=3.07>1,表示    方法,Vertex監控發現HF逸散皆
                                                                                                                                     gate2瞬間濃度約8ppm  圖6 ,而開           此process  type  PM作業期間有急        於Chamber  lid開啟並移除shower
                                                                                                                                     始進行Wet  Clean  chamber內部時        毒性危害。                           plate階段,因此評估開啟前執
            減少,再進行pump  purge,同樣             可計算出改善後HCN之AHQ inh =            Poly Metal Gate etch                                                                                                     行Fresh  air  purge,使汙染物在
                                                                                                                                     HF瞬間濃度較低約0.4ppm,再利               Metal  gate  2之C acute =0.76ppm=
            以Vertex持續監測汙染物,確認副               0.1/0.34=0.29<1,表示經工程控          (機型HITACHI)
                                                                                                                                     用impinger採樣+以IC鑑定負離子確            0.62mg/m ,計算出AHQ inh =0.62/     未開啟前及早接觸空氣中水氣反
                                                                                                                                                                               3
            產物瞬間逸散濃度可降至Ceiling以              制後PM作業期間已無急毒性危害                                                                              -                                                           應,並由House  vacuum抽走,但
                                                                                                                                     定為F ,因此HF濃度值遠大於HF                0.24=2.59>1,此機台PM作業期間
            下。實驗方法:PM前BCl 3   Plasma         之可能。                            Vertex「(試)紙帶式氣體偵測器」                                     ceiling值6ppm須進行工程控制改善                                            HITACHI機型於chamber  接觸空氣
            clean次數由原先2次逐步提升至5                                               先期量測是否具氣態污染物,並以                                                                          有急毒性危害。依據吸入性急毒危                 前並無其他gauge或閥件可拆除供
                                             綜合評估AlPad Tool PM事項:                                                                    汙染物逸散實驗。                         害指標計算結果,須立即進行工程
            次,可發現clean e-chuck HCN濃度                                         廠內實驗室儀器impinge+ IC協助鑑                                                                    控制,以確保改善至AHQinh<1。              空氣流入,藉由現場作業觀察發
            由24.2ppm大幅下降至3ppm,具              PM過程中具有H C N暴露危害,               定無機物種類                                                                                                                   現chamber接觸空氣前最後一個步
            有顯著效果如 圖5 。                      危害關鍵步驟為:Clean  chamber          HITACHI型式Poly  ETCH製程機                                  計算Metal gate 1 Tool PM HF吸入      依上述監測結果:PM過程中具有                 驟即為移除shower  plate,因此評
                                             wall  、clean  E-chuck,其中clean   台,分成兩種Process type:Metal                                性急毒危害指標                          HF暴露危害,需確實配戴呼吸防護                估chamber  lid開啟後留下shower
            依工程控制後Vertex量測結果重新
                                             E-chuckHCN濃度最高達24ppm具           gate1、Metal  gate2,其製程氣體                                AHQ inh =C acute ‧0.001/AIEC分別代  器,確認設備現場有依PPE  O.I.規            plate,藉由其上方之微小孔洞當
            計算HCN吸入性急毒危害指標,
                                             吸入性暴露危害風險,因此透過與                 為4%CH 4 /AR, CHF 3 , Cl 2 , HBr, NF 3 ,                 入下列數值,                           範配戴PAPR呼吸防護具及搭配防                作外界空氣進氣口,再由  pumping
            AHQ inh =C acute ‧0.001/AIEC分別代
                                             設備合作利用工程控制將HCN瞬間                SF 6 , SiCl 4 , Ar, He, O 2 , H 2 ,PM頻率                                           3      酸鹼手套進行作業,並於PM作業                 line  測漏manual  valve以House
            入下列數值,其中:                                                                                                                – HF急性吸入暴露標準(mg/m )為
                                             濃度降至1ppm以下,並確認人員                約為每週一次chamber  PM,先以                                      0.24mg/m  3                    期間確實使用House  vacuum進行           vacuum抽氣,形成氣流帶走副產
                                         3
            – HCN急性吸入暴露標準(mg/m )             有確實遵守PPE  O.I.穿戴呼吸防護            vertex分析器搭配MA/Cl 2 紙帶進行                                                                  助抽,但量測結果顯示僅至於旁邊                 物 圖7 。
              為0.34mg/m  3                   具PAPR,及作業期間確實使用PM               監測,發現Metal  gate1,2皆為開                                  – C acute 為HF最大小時暴露平均值           助抽效果並不顯著。                       以metal gate 1機型進行實驗PM前
                                                                                                                                                       3
            – C acute 為HCN最大小時暴露濃度           hood避免汙染物逸散。將上述步驟               啟chamber  lid並移除shower  plate                             0.9ppm=740ug/m =0.74mg/m   3                                   Fresh air purge 5 mins,發現HF濃
              值平均值0.09ppm=0.1mg/m        3   標準化修訂PM O.I.及PPE O.I.。          瞬間接觸空氣後會產生瞬間高濃                                            (HF分子量20.01)                   執行工程控制By-product減量實驗            度於shower  plate開啟瞬間約降至
              (HCN分子量27.03)                                                  度HF讀值,其中Metal  gate1開啟                                  計算出Met al  g at e  1 之H F 之      依現場機台硬體狀況設計工程控制                 3.4ppm,wet clean cham-ber wall



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