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EDITOR'S                                                                                                                                                                         PREVIEW



             COLUMN                                                                                                                                                                           vol.40








             主編│張智能 C.N. Chang│中科廠務一部


                                                                                                                                                                                              水氣化系統創新技術與
                 空氣懸浮分子態污染物(Airborne Molecular Contamination, AMC)是半導體製程發
                                                                                                                                                                                              綠色製造之應用與實務
             展與製造設備的主要問題之一，AMC依據SEMI Standard F21分為四大類：酸、鹼、可
             冷凝有機物、金屬類雜質，除了揮發性有機物隨著奈米製程而越來越敏感，連帶影響

             每年高額的AMC防禦維護費用之外，還有其他尚未分類的污染物也虎視眈眈地伺機演
                                                                                                                                           EDITORIAL BOARD
             化成潛在品質問題。
                 ITRS(International Technology Roadmap for Semiconductors)及IRDS(International                                                                                                     隨著先進製程之快速發展與演進下，氣體化學系
             Roadmap for Devices and Systems)雖然有定義不同製程節點的AMC量化目標，然而這                                                                       發行人 Publisher                                      統供應品質的提升與預警指標是目前廠務協助工廠穩
                                                                                                                                           莊子壽 Arthur Chuang  tschuang@tsmc.com
             些目標值僅能作為我們公司的發展參考，我們公司的客戶信任、製程領先與卓越製造
                                                                                                                                                                                              定良率的重要課題之一，此外，公司秉持企業成長與
             這三項優勢讓廠務家族也必須提出廠務系統的前瞻管理願景。                                                                                                   總編輯 Editor in Chief
                                                                                                                                           范恩祖 E.T. Fan       etfan@tsmc.com                  生態環境共存共榮的信念下，綠色製造亦為公司社會
                 結合廠務家族內的機械領域各種專家，大家集思廣益後一致同意「空氣懸浮分子                                                                                                                                          企業責任的焦點；因此，下期廠務季刊將針對水氣化
                                                                                                                                           主編 Editor
                                                                                                                                           主編
             態污染物零檢出的願景(Zero AMC Vision)」作為專刊的主題，雖然願景實現還有一段
                                                                                                                                           張智能 C.N. Chang     cnchang@tsmc.com                系統在提升供應品質與穩定運轉的目標下，介紹可應
             艱辛路程要走，我們號召各領域專家從「專業基本」來探討機會與方法，從「零」出
                                                                                                                                           美術主編 Art Director                                  用的新處理技術與管理指標與大家分享；在綠色製造
             發，謙虛地檢討工廠內部及外部的AMC來源、早期預警機制未來發展、視覺化智慧化
                                                                                                                                           孫揚淂 YangTe Sun     YTSUNL@tsmc.com                 方面，針對新的廢水與廢棄物處理系統運轉經驗與水
             管理、處理與應變復原的進化、化學濾網的再生，歸零的高標準迫使我們超前部屬廠
             務專業技術的進化。                                                                                                                     編輯顧問 Editorial Advisory                            污未來面臨的挑戰和要求，亦發表進一步探討與研究
                                                                                                                                           薛仁猷 J.Y. Hsueh     陳鏘澤 Tony Chen                   的結果；敬請讀者期待。
                                                                                                                                           陳勇龍 YungLong Chen    江世雄 S.H. Chiang
                                                                                                                                           洪永迪  Eddy Hung


                                                                                                                                           編輯委員 Editorial Board Members                                                   ――主編/趙樹華
                                                                                                                                           李明利 M.L. Lee       林韋志 W.C. Lin
                                                                                                                                           黃昭文 Jau Wen Huang    歐人華  J.H. Ou
                                                                                                                                           洪男雄  N.H. Hung     李昇修 Sean Lee
                                                                                                                                           王若杰 Rouh-Jier Wang    洪湘寧 Shiny Hung






                                                                                                                                           發行 Publishing
                                                                                                                                           廠務處 Facility Division(FD)
                                                                                                                                           台灣積體電路製造股份有限公司
                                                                                                                                           新竹科學工業園區園區二路166號
                                                                                                                                           T. +886-3-563-6688
                                                                                                                                           F. +886-3-566-2051
                                                                                                                                           中華民國109年9月出刊
                                                                                                                                           版權所有翻印必究 All Rights Reserved

              主編於中科十五A廠三期四期外氣空調箱系統拍攝  攝影/孫揚淂
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