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Tech
Notes
技術專文
2.3. AMC控制技術
得知上述的污染來源後，對於污染防治措施的部分，可參考 圖4所列舉在TSMC歷年所提供的潔淨空氣等級及技術，
可發現MA/MB/MD在N10/7製程後無塵室內濃度皆已達到最佳潔淨空氣供應，但在MC的部分，仍有相當大的努力空間。
100 ppb
1987~2000
• 抽取式TOC Filter
• MAU A/W
• MAU TS/NH3 Filter • IPA 高效能Filter
• Tool 3in1 Filter • SCR 水源改善
• ECP/BE-B.S
2000~2008 正壓供應 Purifier
• CMP/WET 中空纖維
• 重點機台 機台改善
Seed Mini-enclosure • MAU 二次過濾
• MAU TOC Filter • 煙囪/CR Mitap M 5~8 ppb
• 3in1 FFU Filter C
• TOC regen Filter 2008~2020
• Filter Wall
• 鐵甲戰車
New Concept
• XCDA Purifier
• TOC 動態再生
2020~ <1 ppb
MA MB MD
100ppb 30ppb <1ppb
圖4、TSMC AMC Defense Roadmap
在MC的汙染防制技術可分為物理/化學/生物，細部可分為吸附/水洗/隔離/焚化/加藥/生物處理 ，如 表1所示。
[6]
TSMC已應用水洗/吸附/隔離等汙染防制技術於現行無塵室內潔淨空氣供應。
表1、VOC處理技術類別
處理方法
物理 化學 生物
反應相態 氣相 掩蔽 化學瀰臭(Chemical Masking) -
防止洩漏 火焰焚化(flame incineration)
抽氣收集
稀釋
液相 水洗 洗滌並同化學藥劑氧化(HClO、O3) 洗滌並同生物氧化
物理吸附 洗滌並同化學藥劑中和(NaOH) (活性污泥或滴濾塔生物膜)
(滴揮發性油類)
固相 吸附劑(活性碳、矽膠、分子篩)之物理吸附 吸附劑(化學修飾活性碳反映樹脂) 生物濾床
觸媒焚化 土壤吸附
適用VOCs特性 極性高之異味成分。適水洗、矽膠或分子篩。 中高濃度含硫、氮等。極易氧化之異味成分 一為生物氧化之中低濃度
極性低之異味成分。適油類吸附或活性炭吸附。 ，適化學洗滌。 (10,000mg C/m3)異味成
低濃度具反應性之異味成分，適化學洗滌或 分(含氧氮硫之有無機物)
是化學吸附。
中高濃度之異味成分，適合焚化。
主要考慮因素 吸附劑再生及異味處理費用 化學藥劑或燃燒成本 微生物活性之維持及氧化
去除效果
以水洗式進行汙染物的去除機制主要以氣體吸收理論為基礎，藉由提升比表面積及滯留時間以達到氣液交換的過程。
此吸收作用通常以雙模理論進行推估 [7][8] ，如 圖5所示。
k_G (y-y_i )=k_L (x_i-x)
式中k_G是氣相直傳係數，y為氣相汙染物的莫耳分率，k_L是液相直傳係數，x為液相汙染物的莫耳分率。故可得知在
單一汙染物其去除效率為氣液相間的濃度差。
1 2 3 4 5 6
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31 32 33 34 35 36
41 42 43 44 45 46
