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1nm partical Mono-layer of decane(C10)molecules

10 nm -10 nm-

-10 nm-

圖1、線徑示意圖

2. 文獻探討

為了達到AMC零汙染的目標，我們必須先了解AMC是什麼，在進而確認各種汙染來源及防治方法，最後透過各種監
測及時反映成效，最終導入管理以確保系統的長時間運作及後續保養維修。

2.1. AMC定義
acids bases
根據SEMI F21-1102的定義AMC為無塵室空氣中所包含 HF SO x HCI TMAH NH 3 TMA
NO H S HBr
的化學物質，主要分為五大類 : MA/MB/MC/MD/Oth- H SO x 2 H O 2 NMP AsH Amines
[2]
2
2 4 BF 3 3
ers，詳細分列如 圖2所示。 BHT No classification TEP AsH
①MA : 酸性物質，Ex : H2S；②MB : 鹼性物質，Ex : DOP TMB DBP O 3 IPA PH B H 6 3
2
Siloxanes 3 BF 3
HH3；③MC : 沉積物質，Ex : BHT；④MD : 載體物質，
condensables dopants
Ex : AsH3；⑤Others : 無法被定義物質，Ex : IPA。
圖2、AMC Classification
2.2. AMC定義

在了解了AMC汙染的組成之後，我們可以藉由 圖3了解到各汙染物在無塵室內外的主要來源 [3][4][5] ，MA主要為外部來
源，MB是人員在無塵室內活動及機台洩露所造成，MC來源為設備PM不當洩露及外氣影響，MD為機台PROCESS時腔體
氣密不足導致溢散。

Exhaust gas, Local or regional pollutants,
e.g. SF 6, etc. e.g. NOx, DMS, SO 2, etc.

Exhaust Outside Air, AMC > ppbM Penthouse

Dry coil
MAU

FFU FFU FFU FFU FFU FFU FFU FFU FFU FFU FFU
From PM: IPA, solvents, etc.
From process: Cl, B, N2O, etc.
From wafer, storage: Cl, etc.
Scrubber Process NH3 Outgassing: B, organics, etc.
tool
Chemical,
Slurries, Drain
Water, Gas Chemical
Gas, etc. VMB VMB
From leakage: P, B, Cl, NH3, etc.

圖3、AMC汙染分布圖

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