Page 23 - Vol.47
P. 23

② Reactor(700~800℃)
                                        Deionization & Oxidation              Deionization & Reduction
                                                                              NF 3(g)  + NH 3(g)  → N 2(g)  + 3HF (g)
                                        SiH 4(g)  + 2O 2(g)  → SiO2 (S)  + 2H 2 O (g)
                                        2H 2(g)  + O 2(g)  → 2H 2 O (g)       2NF 3(g)  + 3H 2(g)  → N 2(g)  + 6HF (g)
                                        3NF 3(g)  + 5H 2 O (g)  → 9HF (g)  + HNO 3(g)  + 2NO (g)  3N 2 O (g)  + 2NH 3(g)  → 4N 2(g)  + 3H2O (g)
                                        4NH 3(g)  + 5O 2(g)  → 4NO (g)  + 6H 2 O (l)  4N 2 O (g)  + CH 4(g)  → 4N 2(g)  + 2H 2 O (g)  + CO 2(g)
                                        4NF3(g) + 5O 2(g)  → 4NO (g)  + 6OF 2(g)
                                        N 2 O (g)  + O 2(g)  → NO (g)  + NO 2(g)








                    ① Inlet Scrubber
                    NH 3(g)  + H 2 O (l)  → NH 4 OH (aq)
                                                                                         ③ Outlet Scrubber
                    F 2(g)  + H 2 O (l)  → HF (aq)  + HOF (g)
                    HF (g)  + H 2 O (l)  → HF (aq)  + H 2 O (aq)
                                                                                         NH 3(g)  + H 2 O (l)  → NH 4 OH (aq)
                                                                                         HF (g)  + H 2 O (l)  → HF (aq)  + H 2 O (aq)
                                                                                         HOF (g)  + 2H 2 O (l)  → 2HF (aq)  + H 2 O 2(l)
                                                                                         2H 2 O 2(l)  → 2H 2 O (l)  + O 2(g)
                                                                                         OF 2(g)  + H 2 O → 2HF (aq)  + O 2(g)
                                                                                                         NH 4 OH (aq) ,
                                                                                                         HF (aq)
                                              圖1、水洗–電熱–水洗Local Scrubber處理尾氣之方式



                                                                             表3、Local Scrubber運轉操作參數項目

                                                                    LSC Type  LSC Model  Heater   Torch   NG/O 2  NG  O 2  CDA  Fresh
                                                                                      Temp  Power             Water
                                                                    Thermal-Wet  KT-1000FA  V              V   V
                                                                           WTC-300     V                   V   V
                   Outlet Scrubber (w/ NaOH dosing)
                                                                           IPI-310     V                   V   V
                   4HF + 4NaOH → 4NaF (s)  + 4H 2 O
                                                                           CT Kaiser   V                   V   V
                   2SO 2  + 4NaOH → 2Na 2 SO 3(s)  + 2H 2 O
                                                                    Burn-Wet  DAS ESCAPE        V              V
                                                                           DAS STYRAX CVD       V              V
                                                                           Edwards Helios Epi      V   V   V   V
                   Deionization & Oxidation
                   CF 4  + 2CH 4  + 4O 2  → 4HF + 3CO 2  + 2H 2 O          Edwards Helios CVD      V   V       V
                                                                           Edwards Atlas           V   V       V
                   4NF 3  + 4CH 4  + 5O 2  → 12HF + 4CO 2  + 2H 2 O + 2N 2
                   CHF 3  + 2CH 4  + 5O 2  → 6HF + 4CO 2  + 2H 2 O  Plasma-Wet  CSK CHAOS  V                   V
                                                                           Edwards Proteus  V              V   V
                   2SF 6  + 4CH 4  + 7O 2  → 12HF + 4CO 2  + 2H 2 O + 2SO 2
                   4NH 3  + 3O 2  → 2N 2  + 6H 2 O                  Wet    DAS Salix                           V
                                                                   2.4  iSystem運作架構
                       圖2、燃燒–水洗Local Scrubber處理尾氣之方式
                                                                       由於半導體機台實際運轉所使用的製程氣體及流量會依
                                                                   製程所需進行調變,實際使用的流量會低於其MFC最大量,
                2.3  Local Scrubber運轉操作參數
                                                                   而Local Scrubber在上述運轉操作參數的設定是以其製程氣體
                    依據前述Local Scrubber處理尾氣的方式以及目前所使                MFC的最大量為依據,且其參數之設定值皆為固定值,因此
                用的Local Scrubber種類,主要可調整的運轉操作參數類別為                 有進一步節能的空間。
                處理溫度、壓縮乾燥空氣(Compressed Dry Air, CDA)、天然                iSystem為美商應用材料公司(Applied Materials)一個控
                氣(Natural Gas, NG)、氧氣(Oxygen, O 2 )做為氧化劑或還原劑       制半導體機台附屬設備節能的產品,其主體為一個電腦控
                之流量、新鮮水(Fresh Water)做為水解及氧化還原反應之流                  制器,可即時接收製程機台使用的製程氣體種類及流量,
                量。(表3)                                             並依據控制器內部定義的附屬設備操作模式,即時傳達命
                    而Local Scrubber對於製程尾氣處理為滿足其排放規格,               令給附屬設備(例如:Dry Pump、Local Scrubber)改變其運
                會以製程氣體MFC的最大量做為運轉操作參數設定之依據。                        轉操作參數,亦即讓附屬設備Local Scrubber有了眼睛和大


                                                                                             FACILITY JOURNAL        09  2022  21
   18   19   20   21   22   23   24   25   26   27   28