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TSMC/ Facility Published

3.2 Plasma-wet LSC 以 CH 還原法 De-
4
NOx 之應用

新型電漿水洗式 LSC 之示意圖如圖2 所示，該 LSC 主
要包含了火炬 (torch)、4 個入口，並在反應腔周圍以
渦流式循環水避免腔體高溫。後段水洗段則是為了避
免如 NF 3 氣體經反應解離後產生 HF 及 F 2 氣體，故以
灑水方式將其去除。為了達到 De-NOx 功能，該機台
將製程廢棄入口管路偏移至兩側，避免廢氣直接跟火
炬高溫段反應；另外也導入 CH 4 還原專利技術，即在
入口管新增 CH 4 管路，作為 NOx 的還原劑並同時提
高N 2 O 的去除效率。另因加入 CH 4 ，因安全問題故在
inlet 處加入 T/C(thermal couple) 來監測入口溫度之
變化及在箱體內設置 CH 4 監測儀確認瓦斯是否洩漏。
腔體下方較低溫區 ( 約 600℃ ) 則加入 CDA 管路，以
CDA 將未完全反應完的 CH 4 反應為 CO 2 +H 2 O，如此一
來可以達到 : ➀ N 2 O DRE>95%；➁ NOx<150ppm；
➂ CH 4 出口濃度 N.D 等效果。

圖 1：LSC 檢測手法示意圖

圖 2：De-NOx Plasma-Wet LSC 示意圖

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