Page 130 - 52

TSMC/ Facility Published

參考文獻

01. David Gray，The Reaction of Hydrogen
Peroxide with Nitrogen Dioxide，1972，The
Journal of Physical Chemistry Volume 76.
02. 李崑池，以活性碳進行半導體廠含雙氧水清洗製
程廢液回收處理之研究，2011，崑山科技大學環
境工程系。
03. 陳鴻賓，不鏽鋼的耐腐蝕性，防蝕工程第六卷第
一期 p44~60，1992。

04. 維基百科。https://zh.m.wikipedia.org/wiki/
酸度系數

05. 呂欣、劉明翰，廢硫酸去除雙氧水系統 安全防
護提升，廠務季刊 Vol.32。
06. 曾治寰、郭中閔，廢硫酸去除雙氧水系統最佳化
探討，廠務季刊 Vol.44。
07. 林力雋，無憂無氯_低濃度廢硫酸回收效率提升
及品質優化，廠務季刊 Vol.48。

08. 中華民國專利 I555702 號 ( 回收廢硫酸溶液的方
法與裝置 )，2016。

作者介紹

吳世霖 Shih-Lin Wu

畢業於中山大學環工所。
堅持一份持續改善、創新之信念，期許
對系統改善、節能減廢等領域貢獻一己
之力。

���