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李玫 Mei Lee
致力於廠務系統設計及建造
喜好電影旅遊與新鮮人事物

處理法…等，而 TMAH 回收再利用，通常採用蒸餾濃縮或樹脂濃縮處理後，將回收高濃度廢液載運至
工廠純化處理後再利用，或燃燒處理。目前大部分園區廠商處理 TMAH 做法為 : 中和稀釋後排放或再

經生物處理後排放，以上兩種做法均無法解決總氮排放的問題。比較以生物處理及樹脂濃縮脫附回收
方式，雖操作成本之耗費相差不大但空間至少可減少一半，且樹脂濃縮回收方式既可解決廢水排放氨
氮與總氮問題，且可將 TMAH 回收再利用，對環境之衝擊相對較小，可提昇企業形象及減少產品的碳
足跡，故建議選用。本文詳細介紹樹脂濃縮回收再利用之流程與設施，和回收許可申請與通路，以供
廠區未來參考用。

前言 專業回收廠重新純化精煉，銷售予光電業或電
子清洗業，以再利用。
政 府自民國91年提出「兩兆雙星」計畫，
即大力扶植半導體與彩色影像顯示器兩
項產業，期使其產值在民國95年時，各自突破
一兆元，同時並推動數位內容與生技產業成為 TMAH簡介與廢液特性
具發展潛力的兩個明星產業。
在 這 些 半 導 體 業 及 光 電 產 業 等 重 點 扶 植 在 電子產業常用之電子級化學品中(如表一
的高科技產業，因為製程上的需要，常使用 所示)，TMAH (Tetramethyl ammonium
揮發性的有機溶劑，例如：四甲基氫氧化銨 hydroxide，四甲基氫氧化銨) 是一種重要的有
(TMAH)、二甲基亞碸(DMSO)、乙醇胺(MEA) 機鹼，是矽橡膠、矽樹脂和矽油等有機矽產
等有機氮、硫類物質作為顯影液、剝離液、清 品合成中的催化劑。在IC或LCD黃光製程中，
洗液等；即有特定有機污染物會隨著廢水被排 TMAH亦扮演顯影劑角色，當光阻經特定波長
放，而由相關研究資料顯示TMAH會對微生物 照射產生化學反應後，再以TMAH將反應後的
產生抑制毒性，且貢獻氨氮值對環境造成危 光阻溶解，使基材上產生製程所需的圖案。在
害，相關管制法規陸續公告並研擬將擴大管 電子行業中，半導體業廣泛地使用TMAH為IC
制。有鑑於此，相關之TMAH廢液回收技術與 正型顯影劑、矽晶圓蝕刻劑、CMP過程超純清
TMAH廢水處理如雨後春筍陸續發展。本文將 洗劑，及Si-SiO 2 介面異性腐蝕劑；並應用在光
著重介紹以樹脂濃縮廢水中之TMAH，再運回 電業之TFT-LCD顯影與剝離製程。

Developer Etchant Stripper Thinner & EBR
1顯影液 2蝕刻液 3光阻剝離劑 4光阻稀釋劑與洗邊劑

TMAH (氫氧化四甲基銨) Oxalic acid (草酸) DMSO (二甲基亞碸) PGME (丙二醇單甲醚)
KOH (氫氧化鉀) H 3 PO 4 (磷酸) BDG (二乙二醇單丁醚) PGMEA (丙二醇單甲醚醋酸酯)
NaOH (氫氧化鈉) HNO 3 (硝酸) MEA (DEA & TEA) (單乙醇胺) ANONE (環己酮)
Na 2 CO 3 (碳酸鈉) Acetic acid (醋酸) NMP (氮-甲基四氫吡咯酮) PP82
NaHCO 3 (碳酸氫鈉) HF (氫氟酸) HA (羥胺) EZ-100
Al-Etch (鋁蝕刻液) SF-M15

表一、電子產業常用之電子級化學品 [1]

NEW FAB TECHNOLOGY JOURNAL APRIL 2012 7