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Tech
Notes
技術專文
TSMC / FACILITY DIVISION PUBLISHED
VOL.40
廠務季刊
URL.http://nfjournal/
掌握原物料特性–精進CR168混酸品質
Comprehend the characteristics of material and enhance the quality of mixing
chemical
文│李家逢 黃玄根│南科廠務2廠務二部│
關鍵詞 / Keywords 摘要
原物料特性 / Chemical Characteristics 黃光微影製程為半導體製造技術之瓶頸，主要在於現代科技的進步導
實驗設計 / Experimental Design 致線寬的縮限，為了提高晶圓產能及良率，廠區對於原物料供應品質尤其
品質監控 / Quality Control 要求。然而許多原物料也因應製程需求添加額外成分(例如 : CR168界面活性
劑)連帶影響本身化學品特性，進而在廠區運轉過程中產生化學變化形成膠
羽或結晶而影響系統運轉。本文主要以實驗設計模擬原物料在供應系統混
酸步驟所產生之化學變化，分析形成原因並尋求系統改善對策，顛覆以往
混酸行為模式並引進回歸反射型感測器偵測，成功避免膠羽並解決線上
(Defect)及運轉問題。
1. 前言
光阻清潔液(CR168)因膠羽問題，故混酸過程需經過多道濾芯長時間過濾循環，且膠羽易殘留於混酸稀釋桶桶壁及桶
底管路塞管，造成過濾濾芯負載需耗費龐大人力及昂貴的化學品來頻繁更換濾芯(年花費預估 : $18M NTD)，如 表1所示。
在多數化學品為高純度強酸/鹼的情況下，現行化學儲存槽設計皆選用抗腐蝕材質-鐵氟龍內襯鐵桶，較難觀察桶槽內
部化學品品質變化，且依照化學品品質監控規範(NH OH濃度/pH/表面張力)無法有效偵測膠羽，故利用實驗設計方法來探
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討原物料特性及其混酸品質變化，期望能有效避免膠羽產生以減少系統濾芯過濾負載，同時，在無膠羽的環境下，也有機
會降低混酸濾芯過濾循環時間，借此提高混酸產能及濾芯預算節省，最後，成功評估回歸反射型光纖感測器以即時監控桶
內是否產生膠羽，分享改善之方法供各廠參考。
表1、CR168濾芯每年更換成本
CR168濾芯更換成本計算(年)
更換隻數 濾芯成本 化學品清洗成本 總花費
系統 濾芯位置
(EA/年) ($M NTD) ($M NTD) ($M NTD)
CMU 粗/細濾 432 13 5 18
李家逢 C.F. Lee 黃玄根 S.G. Huang
國立台灣科技大學化學工程研究所畢業。 國立台灣大學材料科學與工程學系暨研究所畢業。
冷靜面對，化繁為簡 台積電F18A廠務部是我職涯第一份工作，期待未來能再此領域
獲得滿滿的收穫。我相信再多一點努力，就多一點成功。
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