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2.  文獻探討                                          桶槽會先進行DI洗槽程序後,再重新起始步驟進行混酸稀                    51                       52                                                                                                                                                                                                                                  53                        54
                                                                   釋。
                 2-1  混酸系統及稀釋流程
                                                                   2-2  界面活性劑特性探討
                     光阻清潔液(CR168)在廠區為混酸稀釋系統設計
                 (In-housing mixing system),主要運用在黃光顯影製程技               界面活性劑的分子中含有親水性與親油性的結構,當
                 術,作用在去除晶圓曝光顯影處理後表面產生之鹽類,如                         界面活性劑單獨在水中存在時被周圍的水分子圍繞導致親
                 圖1為CR168混酸稀釋程序,以CR168原液加入至NH OH                   油性基的不穩定。因此為了使親油性基安定化,界面活性
                                                          4
                 75ppm溶液中進行稀釋混合,混合過程中先透過短距循環                       劑會在水/空氣、水/油、水/固體基質等界面上吸附。但當
                 0.5hr(路徑不經過濾心)將原液與NH OH 75ppm均勻混和                 界面活性劑的濃度更高時,隨著在水中不安定的界面活性
                                             4
                 ,再經由粗/細濾濾芯循環共5hrs(路徑經過濾心)過濾稀釋                     劑增加則界面活性劑分子間會產生凝聚現象而變成安定且
                 液中的膠羽及不純物,最後進行品質檢測(NH OH濃度/                       呈並列狀態即稱「微胞」,如 圖2所示。
                                                     4
                 pH/表面張力)後才能進行上線供應,當供應完畢後,稀釋



                                                                0.5hr          2hrs          3hrs
                               NH4OH 75ppm    CR168原液落料        短距循環          粗濾循環           細濾循環
                                   落料            4.8kg        5000rpm        5000rpm        5000rpm
                                               原液落料時
                                              75ppm不循環

                                                        圖1、CR168混酸稀釋程序



                         親水基


                         疎水基

                        A : 界面活性劑            B : 球行微胞               C : 棒狀微胞                  D : 繩狀微胞

                                                       圖2、界面活性劑與微胞型態       [1]


                            [1]
                     根據文獻 及 圖3顯示微胞或微膠粒                    75
                 (Micelle)是指界面活性劑在溶液中的濃度                                      Surfactant molecule  � Hydrophobic portion
                                                          70
                 超過某一臨界值後,其分子或離子會自動                                                            Hydrophilic portion
                                                          65
                 締合生成膠羽型態,並呈現為球狀、柱狀
                 等的微膠體粒子,當界面活性劑濃度持續                       60
                 增加時,溶液內的界面活性劑分子中的長                       55
                 鏈親油基會藉由分子間吸引力而互相締合                      Surface tension(mN/m)  50                 Critical micelle
                                                                                                    concentration
                 結構成團,而親水基團則會與水分子吸引                       45                                          (CMC)
                 而轉向水中形成聚合體,當界面活性劑達
                                                          40
                 一定濃度後微胞或微膠粒開始形成,如此                          Air          Surfactant   Surface      Micelles
                 微胞濃度的增加或形狀的變化因此微胞在                       35      Surface  at surface  saturated    formed

                 水中無法自由轉動,微胞與微胞間的相互                       30
                                                              Water at 20℃
                 作用或絡合,導致黏度的上升或膠化等溶                       25
                                                           0.1        1         10         100       1000     10.000
                 液性質上的變化,故本文將對工廠使用之
                                                                               Concentration(mg/L)
                 原物料化學品界面活性劑特性進行研究並

                 與黃光配合測試及改善。                                        圖3、CMC臨界微胞濃度(圖片出處參考KRÜSS)


                                                                                             FACILITY JOURNAL          1 2   2 0 2 0  61  62                                                                                                                                                                                                                                  63                        64















                 機台一個建議定期保養週期,確保化學品循環過濾次數能
                 恢復至正常水位後再執行下一次的保養。
                     目前DCM的計算,係建立於設備端的化學品需求流量
                 為一固定值的假設,故目前僅適用於設備端需求流量較為
                 穩定的化學品。未來若將廠務端供應機台的出口流量計即
                 時數據,導入DCM的計算程式中,相信可更廣泛地適用在
                 各種DU化學品的循環過濾次數計算。



                 參考文獻

                 [1]    曾恒毅,2019,因應研發先進製程轉量產之氣體與化學供應系統
                     運轉策略。廠務季刊,Vol: 33。
                 [2]    徐銘宗、江宜臻、謝欣容,2013,先進半導體廠化學品供應系統
                     及微粒子控制。廠務季刊,Vol: 10。



































































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                                                                                                                81                        82                                                                                                                                                                                                                                 83                         84












































































































                                                                                                                91                        92                                                                                                                                                                                                                                 93                         94
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