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技術專文

2nm PTFE(Entegris ® )濾心與1nm孔徑PS(Entegris ® )濾心 4.4 傳統與擾流洗淨金屬殘留分析
洗淨後，總金屬殘留量兩者皆比HAPAS佳，而PTFE又略比PS
傳統洗淨(POR)比較擾流洗淨(CIT)天數和金屬殘留比較如
佳，觀察PS洗淨5日後，僅約10ppt/unit微量析出元素。
圖27，以鈉、鎂、鋁和鉀析出殘留量觀察，傳統洗淨至範圍
4.3 HF25%供應系統使用HAPAS、PTFE和PS濾心洗淨後 需花15天左右，而使用擾流洗淨僅需花5天，效率提升3倍，
金屬殘留分析 且洗淨2天即有大幅度減少金屬殘留；HAPAS濾心在多日洗淨
和浸泡後，仍偶有金屬析出現象發生。
比較與上述4.2中同濾心條件下，搭配使用不同濃度氫氟
酸HF25%供應系統中，CDU(Chemical Dispense Unit)單通道 4.5 HAPAS、PTFE和PS濾心供應試車於晶圓測試
並聯2支10吋濾心，如 圖25；當日更換後滿酸浸泡取樣後，
HAPAS、PTFE、PS於洗淨後，使用HF1%供應系統進行
PTFE和PS金屬殘留量較HAPAS少，且執行第一次正洗120L和
濾心試車(pre-qual)，分別得到 表4 inline KLA和 表5 offline
逆洗60L浸泡後取樣，PTFE金屬殘留即達規範，PS需洗至5日
particle結果；兩者數據主要供應下游關鍵製程(Critical Process)
後，鋁金屬殘留可達規範內，兩者皆可於短時間內，洗淨符
WET Clean設備，於濾心上線供應後4小時後，由晶圓電子束
合供應需求。
檢測缺陷(Inline KLA)，HAPAS和PS皆無累計特殊缺陷、明顯
此次HAPAS濾心更換於HF25%供應系統，此實驗組相較
大量計數或特殊分布，粒徑檢測(offline particle)19nm顆粒尺寸
於HF1%，雖洗淨速度較快，仍未能在短時間洗進使用品質
(particle size)計量皆在範圍內。使用HF25%供應系統進行濾心
內，幾日洗淨浸泡後取樣，仍有鈉、鎂、鐵和鉀金屬析出。
試車(pre-qual)，得 表6 inline KLA和 表7 offline particle結果，
HAPAS濾心無論投入於HF1%或HF25%洗淨實驗中，鋁金
無論Inline KLA和offline particle結果皆符合規範。
屬殘留於原包材較為顯著，原廠Pall ® HAPAS濾心進行HF1%浸
泡實驗，並間格3日取樣觀察，隨浸泡時間越長鋁析出量呈現
線性增長，第13天浸泡析出結果，鋁金屬佔總金屬析出量約
90%，如 圖26；其次觀察析出金屬為鉀、鈉、鐵和鈣元素，
析出元素同本次洗淨實驗觀察結果。

圖24、HAPAS、PTFE和PS於HF1%洗淨天數與金屬殘留比較

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