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                                                                                                    Notes
                                                                                                    技術專文























           圖7、雙膜理論應用於Central Scrubber煙道排放HF之去除
                                                              圖9、循環水pH值與酸鹼排放濃度試驗-SEX煙道濃度趨勢圖

















             圖8、HF於水中完全解離後去除效率與pH線性正相關                            圖10、循環水pH值與煙道酸鹼污染物濃度盒鬚圖



              本團隊於實廠分別測試pH=8、9、10、10.5、11時空污排
           放之表現(Fab12B補水採用MAU Air washer冷凝回收水,pH接
           近8;實測顯示Fab12B Central Scrubber加藥Pump可增加之
           pH極限為pH=11),每項參數皆收集一整日之數值(至少24筆)
           再進行分析,測試結果如 圖9。
              從 圖9Steam煙道連續監測結果可得知不同製程機台、廠                           圖11、循環水pH值與NaOH加藥量關係圖
           務設備高濃度排放時間不同影響AAS煙道排放濃度,以現行人
           工採樣手法(標準檢測 : 2-3Hr 1筆,單日2筆),若改善前採樣時
                                                             5.  結論
           間落在排放濃度低之區間,改善後採樣時間落在濃度高之區
           間,即造成誤判,反之亦然。雖然煙道排放酸鹼污染物濃度                            現行人工標準採樣手法進行煙道檢測,每次檢測時間約
           變化大,但觀察以Steam煙道連續監測進行長時間量測後之平                     2-3小時、採樣設備安裝拆卸至少耗時4小時,當日最多上下
           均值變化發現(圖10),循環水pH值從設定9→10總酸排放下降                   午各採集一筆濃度數值,若委由第三方公證單位採樣須等待
           11.6%,NH 3 排放無顯著上升(NH 3 主要排放上升段為pH8→9),           4週才會收到檢測結果,另外因製程及上游廠務設備的運轉、
           若pH9→8 NH 3 下降28%,但酸性離子濃度則上升5-60%不等。              上下貨、Flush、灌充等特性,使人工檢測觀測空污設備參數
              Central scrubber循環水加藥調控pH(供應OH )之方法為來          調整並不即時及容易受源頭排放影響,排放異常升高時也無
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           自水處理課供應之NaOH(45%),本實驗於調整pH收集長期煙道                  法立即發現。
           排放酸鹼污染物濃度的同時也進行加藥量監測(圖11),當Central                    Fab12B架設AAS煙道連續監測系統結合Online IC,期
           scrubber循環水pH10→11,酸下降8.0%,但NaOH加藥量(+4.7L/        望藉由連續監測提升工程師針對不同源頭及濃度之Central
           Hr)上升幅度遠大於pH9→10(+1.1L/Hr),比對循環水中各成份之pH           Scrubber進行參數優化,但既往使用Denuder做為排氣污染
                                                             物收集方式對粒狀物效率不佳(主要為捕捉氣態污染物),但
           平衡圖發現pH10→11之間由空氣中洗滌下CO 2 組成的離子態HCO 3-
           會大量轉成CO 3  ,釋出H 與NaOH中和,造成用量增幅明顯。                 半導體工廠特性為SEX、AEX煙道空氣污染物粒狀占比皆大於
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                            +
                                                             50%,若無法捕捉粒狀物將無法呈現整理之改善水準。AAS
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