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表6、CDO、CSK原型、CSK改水霧SGS出口量測結果 室氣體排放改善外，廠區HF排放濃度也明顯改善，可提供給
目前正在進行De-PFC之200mm廠區進行參考。

參考文獻
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[02] 科儀新知第二十八卷第二期 95.10_新型半導體全氟化物廢氣電漿處理技
術_陳永枝、陳孝輝。
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[04] 電漿技術應用於處理全氟化物之研發與探討，工研院環安中心_游生任。
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[06] TSMC 企業社會責任報告書。
[07] 「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」_環保署。
4.3 歷年煙囪檢測結果
作者介紹
經過歷時四年(Y2018-Y2021)的現址式處理設備汰換和
改良的方法，委由第三方檢測的數據可觀察到明顯下降的趨 盧泓佑 Hungyu Lu
畢業於國立交通大學土木工程及大地工程研究所。很榮幸參
勢(圖14)。氫氟酸由Y2018至Y2021減量81%，且符合未來空 與廠務期刊的評選，感謝委員每次於審查會議給予的寶貴意
見，更豐富本人廠務工作職涯內容。
污排放標準修正草案所要求<0.42ppm以及TSMC內規標準
康智翔 Z.H. Kang
<0.35ppm。 進入公司後經歷AMC、AAS、CR三大系統洗禮，期許整合各
系統經驗及創意，貢獻一己之力。

圖14、P101 Y2018-Y2021氫氟酸定檢結果

5. 結論

研究結果發現與改善成效

對於成廠區Local Scrubber汰換與改良的方法，對危害
性廢氣進行第一步的處理，去除製程端廢氣中的危害物，減
輕Central Scrubber負擔，能確實有效降低空污排放。
原廠區針對PFCs處理效率不佳之LSC逐年汰換，PFCs改
善時也發現 :

① 利用節點分析污染物來源，可找出高濃度Sub-main下游
之未符合PFCs之LSC優先汰換。
② 透過將Local Scrubber電熱式更換為電漿式能有效將
Sub-main中的HF減少80%。
③ 再來針對CSK後段灑水型式改良，將灑水型式變更為水
霧式，F 由325,000ppbv減少至5,310ppbv，大大減少與
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水溶解後HF濃度。
④ 其成效對於末端P101煙囪HF排放濃度從Y2018年由1.36
ppm至Y2021年減至0.26ppm，且符合未來空污排放標
準修正草案所要求<0.42ppm。

對於現在成廠區De-PFCs Local Scrubber汰換，除了溫

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