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Tech
Notes
技術專文
「私人定制」的可行性方案。 in unidirectional flow cleanrooms. Building and Environment
34(1999):275-284.
[04] ISO 14644-1. Cleanrooms and associated controlled environments-
4. 結論 Part 1: Classification of air cleanliness. Geneva: ISO; 1999.
[05] 中華人民共和國資訊產業部. GB50073-2001 潔淨廠房設計規範[S]. 北京:
隨著制程技術提升,晶片越來越精密,對現場環境的管控 中國計劃出版社,2001.
要求也變得愈加嚴苛,我們的管控測量要從原本的固有防禦姿 [06] 吳小泉. ISO1級潔淨室微環境氣流組織類比分析[J]. 潔淨與空調技術
CC&AC,2020,6(2)
態轉變成積極進攻姿態。 [07] 羅翌,劉光遠. 垂直單向流潔淨室速度場均勻性的影響因素[J]. 揚州大學
本文首先引入現階段運用成熟的軟體工具—CFD數值類 學報,2006,(2).
[08] 吳昌,羅賢才,葛小林,楊誠. 非均勻開孔率高架地板的電子潔淨室廠房
比,接著通過文獻中數值模擬相關研究說明垂直單向流潔淨室 氣流組織CFD模擬初探[J]. 潔淨與空調技術CC&AC,2020,(4).
內氣流組織的影響因素,也間接證明數值類比可為氣流組織優 [09] 陳浩南,樊洪明,邵伯瑄. 架空地板對潔淨室氣流組織影響的類比研究
[J]. 建築熱能通風空調,2020,39(8).
化提供良好的資料支援與指導方向。最後,本文從「精確狙 [10] 關子謙,樊洪明. 某潔淨廠高架地板佈置率優化設計[J]. 潔淨與空調技術
擊」、「精確監控」及「精確圍獵」三個層級去介紹單向流無 CC&AC,2019,(4).
[11] 袁旭東,王科. 全面垂直層流潔淨室氣流組織影響因素探討[J]. 製冷與空
塵室氣流平行度改善及精進管理辦法。
調,2005,5(1).
在「精確狙擊」方面,本文提出了評估改造策略,建
立EAOC(Environment Assessment Of Change)評估流程, 作者介紹
旨在讓潔淨室內環境參數變更愈加合理且可控,做到風險
葉濤 T Ye
提前預知並有效管控。 很高興能夠加入臺積電這個大家庭,在與F10運轉團隊並肩作
在「精確監控」方面,本文提出了精細化線下人工階段 戰的日子裏,讓我感受到了薹積血液-嚴謹與創新。參與本次
的論文撰寫過程中,前輩們的悉心指導,主編的細緻點播,
性測量機制,建立CR Offline Mapping DataBase System, 都讓我收益頗豐,愈發讓我感受到我是站在巨人的肩膀上眺
望遠方,期許自己能在薹積的舞臺上發光發熱。
旨在通過更加精細化的線下量測來增加現場「眼睛」數量,
姜玉龍 YL Jiang
逐步收取各小區域各指標DataBase,並建立多樣化Baseline 時光荏苒,歲月如梭。在薹積電的運營團隊中我收益良多,
機制,提升環境各指標管控力度。通過這種監控模式,確保 非常感謝大家的照顧與指導。希望能夠在未來與大家一起走
的更快、更穩、更好。
online眼睛看不到的區域動態變化也能了然於胸,並能及時抓
住異常並予以擊破,保證環境溫度無波動。
在「精確圍獵」方面,本文通過三個案例來說明「氣流組
織優化三板斧」。從流體流動基本原理出發,緊抓流動阻力平
衡,通過對不同流徑中的阻力作「加法」及「減法」來達到均
衡各流徑阻力的目的。為此,我們提出精准圍獵之「氣流組織
優化三板斧」,通過「回風竪井」&「FFU」&「地板風閥」來
實現阻力「減法」的目標,通過「Partition」來達到阻力「加
法」的結果。三板斧之回風豎井篇主要介紹了在沿潔淨室寬度
上回風阻力不均衡時,可以通過新增回風豎井的方式去切分回
風路徑,從回風特徵上減少潔淨室寬度,達到優化氣流組織的
目的。三板斧之FFU&高架地板篇主要介紹了通過對高架地板
的開孔率及FFU的針對性調整,可有效調整局部氣流組織使其
更加合理,氣流流動更貼近設求。三板斧之Partition篇主要介
紹了通過新增自動門的方式遏制通風走廊的形成,從而解決橫
向風導致的AMC擴散的問題。
參考文獻
[01] Suh-Jenq Yang, Wu-Shung Fu. A numerical investigation of effects of
a moving operator on airflow patterns in a cleanroom. Building and
Environment 37(2002):705-712.
[02] Kwang-Chul Noh, Myung-Do Oh. A numerical study on airflow
and dynamic cross-contamination in the super cleanroom for
photolithography process. Building and Environment 40(2005):1431-
1440.
[03] M. Cheng, G. R. Liu. Approaches for improving airflow uniformity
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