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參考文獻
[01] SEMI F21-1102 classification of airborne molecular contamination
levels in clean environmentals, Semiconductor Equipment and
Materials International, 2001。
[02] The removal of airborne molecular contamination in cleanroom using
PTFE and chemical filters, Ching-Fa Yeh, Chih-Wen Hsiao, Shiuan-Jeng
Lin, Chih-Min Hsieh, Toshio Kusumi, Hideki Aomi, Hideo Kaneko, Bau-
Tong Dai and Ming-Shih Tsai, IEEE transactions on semiconductor
manufacturing, vol17, 2004。
[03] Organic Airborne Molecular Contamination in Semiconductor
Fabrication Clean Rooms, Walter Den, Hsunling Bai, and Yuhao Kang,
Journal of the electrochemical society, 2006。
[04] 沈克鵬,VOCs空氣污染控制技術與操作審核要點,2009。
[05] 張義龍,潔淨室外氣空調箱水洗加濕器對系統加濕及氣體污染物去除效
率之技術探討,國立台北科技大學碩士論文,2006。
[06] 周佳榮,冷凝水洗技術運用於半導體封裝實廠有機廢氣處理控制,國立
中山大學碩士論文,2013。。
作者介紹
張志宏 C.H. Chang
台大機械所畢業,2013年加入台積電,歷經新建廠、廠務機
械系統運轉、新廠設計發包。在穩定中求創新,朝向無塵室
零汙染,無塵室外零排放的目標持續前進。
FACILITY JOURNAL 09 2022 73