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VOL.51 廠務季刊 Salix 應用於 Polymer/PR Stripping 之銨鹽類霧滴捕捉能力提升與 VOCs 流向展望

一般積體電路製造業的挑戰在於生產過程中常使用大 等，也因混排問題，容易造成排氣端內硫酸離子根與
量酸鹼氣體，所產生的空氣污染物種皆不相同 ( 表2)。 氨離子混和，進而生成白色鹽類粒狀物，其化學反應
本次探討 Polymer/Stripping 於腔室內使用之酸鹼溶 式如下：
液，包含氫氟酸 (HF)、高溫硫酸 (H 2 SO 4 ) 與氨氣 (NH 3 )

[03]
表 2：半導體製造業常見污染物組成
廢氣種類 污染物成分 污染源
酸氣：HF、HCL、HNO 3 、H 2 SO 4 、 氧化、光罩、蝕刻、
酸鹼氣體 CH 3 COOH、H 3 PO 4 、H 2 Cr 2 O 7 反應爐 ( 氧化爐、擴散爐 ) 之清洗、CVD
鹼氣：NH 3 、NaOH

2.2 現行 Wet Bench 粒狀物防治機制

過濾行為並不單純靠利用篩濾進行捕捉，依照粒徑的
不同、物理特性所對應之捕捉運動行為均不同，分別
為：電荷吸附原理的靜電吸引、布朗運動擴散、濾材
攔截、慣性衝擊與重力沉降 ( 圖 2)。而不同粒徑大小
亦有不同的處理效率。

目前硫酸銨粒狀物捕捉的挑戰則落在 PM2.5 以下，其
運動行為著重於靜電吸附、擴散、攔截。而廠區現行
Wet Bench 硫酸銨鹽類捕捉技術改良主要有以下二種：

❶ FSI 主機台源頭排氣分流改造
探討 FSI 主機台硫酸銨鹽類產生的真因為 chamber
exhaust 共管導致酸鹼混排高溫 SPM( 高溫硫酸 ) 及
SC-1( 液態銨 )，儘管不同的化學品使用的時機點不同
( 圖3)，但主機台內聯管為共管，故在風管處造成大量
硫酸銨粒狀物及煙囪排煙問題。其解決的辦法則是將共
管改為獨立專管，解決源頭酸鹼氣體混排問題 ( 圖4)，
藉此粒狀物的產生量亦成功降低 67%( 圖5)。

❷ FSI 主機台後端串聯水渦流機加裝深層式濾網
中科於 FSI 主機台後方串聯之水渦流機內所使用的深
圖 2：粒狀物過濾機制與過濾機制與總效率 [04]
層式濾網，主要使用線狀的材料編織加工成網及毯
狀，而線的線徑可達到 10~0.01mm 的組合關係，
將其纏繞於支架上，放置於與氣流垂直的路徑上進行
攔截與衝擊捕捉，總微粒去除效率為 62.1%，其中
PM1.0~18.0 效率達 90% 以上，而管道內粒狀物主要
成分為硫酸銨鹽類，其處理效率皆大於 7 成 ( 圖6)。

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