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VOL.52 廠務季刊 化學研磨液供應系統 H 2 O 2 濃度測量優化

其最大的缺點就是 H 2 O 2 濃度波動造成滴定終點偏移 滴定終點體積除了以依照預設的滴定終點電位的內插
較大時，會使滴定終點落在非滴定液最小添加體積的 出對應體積的方式以外在內部參數上還有以對滴定曲
區間，使滴定終點內插對應的體積產生誤差。ATRS 線微分來計算的方式，在兩種不同的判定方式有時會
依照預設的滴定終點電位 850mV 將前後兩點的電位 有蠻大的差異。如圖 15 以電位 850mL 內插滴定曲線
& 體積數據，以內插的方式計算出 850mV 對應到的 對應體積的方式得到的體積為 8.405mL，而以滴定曲
體積作為濃度計算依據 ( 圖 12)。但是電位 850mV 將 線一次微分的結果為 8.392mL 這將會對濃度的換算
前後兩點的電位 & 體積數應該要發生在滴定液最小添 產生誤差的結果。
加量時才能減少誤差保持較好的分析再現性 ( 圖 13)。

如前面所提到的磁石攪拌效率或是每次添加滴定液後
的反應時間都會影響已加入的滴定液是否完整反應，
這都會讓滴定曲線改變使滴定終點發生誤差 ( 圖 14)。

圖 12：ATRS 以內插的方式計算出 850mV 對應到的體積

圖 13：如果以非最小添加量去做 850mV 內插則算出的對應體積會發生誤差，添加量與最小添加量差越多則與理想值
對應體積差越大。

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