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VOL.52 廠務季刊 化學研磨液供應系統 H 2 O 2 濃度測量優化

在兩種不同的設定下會分別有不同的判定結果計算 前 面 提 到 的「algorithm」 如 果 選 ➂，seek_set 的
出的滴定體積呈現在分析數據中，seeking 設定的 選項，儀器則會從 ip_end1 與 sp_end 選出一個來
判定結果會以平均電位 ip_value1 與對應的體積 計算濃度，選擇方式是 ip_end 優先，但是如果 ip_
ip_end1 出現在數據，setpoint 設定的判定結果則 value1 與 endpoint 的設定電位值差異過大超過允收
會以 sp_end 出現在數據中。例如， 圖 20 中 ip_ 區間，儀器則會改選 sp_end( 圖 21)。
end1=2.536349mL、sp_end=2.5156mL 兩 者 的 換
算濃度分別為 1.010wt% 與 1.006wt% 有 0.004wt%
的差距。

圖 20：seeking 與 setpoint 的判定結果差異

圖 21：seek_set 中 ip_end1 與 sp_end 的選擇方式

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