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TSMC/ Facility Published

結論

化學研磨液中 H 2 O 2 濃度的測量是一系列複雜流程產
生出的結果，不像其他化學研磨液化學屬性以較簡單
的方式直接以感測器接觸測量，需要做精準的取樣定
量以及反應試劑添加控制，完成反應後需要對反應數
據做處理計算。在這些流程中每一環節發生誤差都會
讓最後的分析結果產生極大的差異。

經過理論基礎以及現場觀察與測試，我們發現了問題
點，並對儀器的取樣、元件作動、判定參數進行了一
系列優化。其中除了參考他廠優秀的分享外，我們針
對 ATRS 取樣路徑增加了調壓閥這以改善取樣誤差並
採用較佳的滴定終點判定方式進行測量，從而顯著提
高了儀器在量測方面的可靠性和準確性。我們成功實
現了精準測量和細膩運轉，並為應對未來新世代製程
的挑戰做好了充分準備。

參考文獻

01. 陳語君，Sample loop 長度最適化，技術通報 2016。
02. 趙培辰，研磨液之雙氧水即時量測技術進化，廠務
季刊 Vol.23。

作者介紹

潘明楷 Ming-Kai Pan
Know something of everything and
everything of something.

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