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VOL.52 廠務季刊 光譜分析儀應用於低壓氣體品質監測之技術開發
圖6(A) 及圖6(B) 分別為品質正常及異常 SiCl 4 鋼瓶樣 的量測上限值。此異常鋼瓶也比照正常鋼瓶的重複測
本的分析結果。由圖6(A) 可看出，在鋼瓶品質正常情 試手法，共執行 5 次。結果顯示隨重複實驗的次數增
況下，SPOES 開始進行分析後，337nm 波強度會上 加，SPOES 的數值也逐漸下降，直至第 5 次試驗，分
升至約 10,000 A.U. 上下，後續即穩定地維持在此區 析結果已和正常鋼瓶相同。此結果也說明了殘存於鋼
間，無顯著變化，重複試驗 3 次實驗，每次均將鋼瓶 瓶內的 N 2 氣態污染物，以及少量溶於 SiCl 4 的N 2 ，
從氣櫃換下後，再以正常更換鋼瓶程序上線再執行量 會隨著後端的氣體耗用，逐漸地將這些污染物帶除，
測，皆呈現相同結果。由圖6(B) 則可看出，鋼瓶內若 和過去發生在廠內一口氣污染後即恢復正常的情況相
含有 N 2 不純物，SPOES 在開始分析後，337nm 波強 同。上述結果也可明顯看出，本研究所採用的 SPOES
度會急遽升高，並在分析開始的 10 分鐘後高於儀器 已具備對於品質正常及異常之 SiCl 4 鋼瓶的辨別能力。
圖 6：SPOES 對於品質 (A) 正常以及 (B) 異常之 SiCl 4 鋼瓶樣本在 337nm 光波長強度的時序分析圖
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