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表 1、常見的高級氧化法比較
高級氧化法 主要反應與產物 優點 缺點
O 3 +UV O 3 +H 2 O→O 3 +H 2 O 2 (with UV) O 3 屬強氧化物,本身可分解TOC O 3 generator極度耗能
O 3 +UV會釋放OH radical,助於分解TOC小分子 需要O 3 Destructor
2O 3 +H 2 O 2 →2∙OH+3O 2
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O 3 +HO 2 →∙OH+O 2 +O 2 無二次汙染物 設備需要高氣密,避免O 3 Leak
H 2 O 2 +UV H 2 O 2 +hv→∙OH 已有完善的飲用水處理系統且正在使用。 相對其他程序,OH 自由基生成量少
TOC+∙OH→By-product 無氣液質傳限制。 中間產物可能會吸收UV 光
OBr+UV NaOCl + NaBr→NaOBr + NaCl 超純水系統已廣泛應用,技術純熟 分子量大的TOC較不容易分解
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3 OBr +(NH 2 ) 2 CO→N 2 +CO 2 +3Br +2 H 2 O 建置成本較低 需要較長的滯留時間,效果較佳
自來水質等級,首先面臨到高導電 brane Bioreactor System, MBR), H 2 O 2 +UV 多了兩倍的當量,因此降
度 (Conductivity,簡稱 Cond.) 與高 因此針對這兩部分進行介紹。 解分解 TOC 能力優於 H 2 O 2 +UV,
總有機物 (Total Organic Carbon, 但缺點是初設及運轉成本高且 O 3
簡稱 TOC) 的問題。以現今水處理 需較高的安全防護機制配套。
技術而言,水中 TOC 裡面分子越 高級氧化法系統
OBr+UV 方法,可運用氫氧自由基
小的含碳物質越難被去除;若不能
核心概念 (OH. radical) 氧化有機物及霍夫
有效去除,超純水系統 (Ultrapure
模廠再生水處理系統採用的技術是 曼 降 解 反 應 (Hofmann rearrange-
water system) 處理負擔增加,會
以高級氧化法 (Advance oxidation ment) 降解醯胺類,此反應是指一
影響供應水質,其中最被難以去
process, AOP) 進行再生、精煉水 級醯胺在鹵素和鹼的作用下轉變
除的即是尿素 (CH 4 N 2 O, Diamino-
質。高級氧化法不同於一般的氧化 為少一個碳原子的伯胺的有機化學
methanal),因此再生水處理系統的
法,可概述為二:強氧化劑可直接 反應;尿素是分子結構最簡單的醯
關鍵技術是去除水中的有機物、優
氧化有機物,達到分解 TOC 效果; 胺,因此去除尿素十分有效果。
化再生水的水質,使再生水的水質
加入強氧化劑後形成氫氧自由基 (. OBr+UV 法初設及運轉成本相對
與自來水的水質相當,甚至優於自
OH radical) 氧化有機物。 低,可說兼具效果與成本優勢。
來水水質。
晶圓製造再生水系統研發分成兩階 模廠高級氧化法概述
段,第一階段實驗室工作於 2015 生物薄膜系統
一般的高級氧化法大多指水中產生
年初發展出高級氧化法基本方法,
氫氧自由基,利用其相當高的氧化 生物系統原理概述
結果已於本刊 2015 年第三季發表;
還原電位 (2.80V) 來氧化有機物,
第二階段(即本階段 ) 執行模廠設 生物處理汙水的原理,是利用細菌
直到最後有機物被分解成二氧化碳
計、安裝、試車及連續運轉測試。 的硝化反應 (Nitrification) 與脫硝反
和水等無機物,是非常有效的廢水
模廠專案於 2015 年 8 月進廠安裝, 應 (Denitrification),將水中的含氨
處理方式。反應為非選擇性,可以
11 月施工完成後導入工廠排放水 氮物質進行分解,使其濃度降低達
一次性大量處理大部分的有機化合
放流水進行試車,並依據進水水質 到納管標準。硝化反應與脫硝反應
物,此方法與舊有的活性碳吸附,
及試車結果調整模廠流程單元後進 的流程 圖3 ,硝化作用會消耗氨氮
逆滲透等單純把汙染物由一相轉移
行 168 小時連續運轉測試。 與氧,產出硝酸氮 (NO 3 -N) 或亞硝
至另一相的方法相比,更能有效消
酸氮 (NO 2 -N),硝化作用需要氧氣,
除汙染源。高級氧化法的方式有許
故生物槽第一座屬於曝氣槽(好氧
多變型的方式,本次模廠所使用的
菌),而且因水中亞硝酸、硝酸根
高級氧化處理法原理、優缺點分 濃度增加,因此會慢慢使水質偏向
再生水模廠系統 析,如 表1 。 酸性;接著進到兼氧槽,適合脫硝
設置原理概述 模廠 AOP 可使用 H 2 O 2 +UV、O 3 + 細菌生長,進行脫硝作用,脫硝菌
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UV 與 OBr+UV 三 種 模 式, 其 中 攝取有機碳將硝酸根離子 (NO 3 )中
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O 3 +UV 去除效率較 H 2 O 2 +UV 好, 的氮通過一系列中間產物 (NO 2 、
再生水模廠系統設置主要分成兩大 原因是 O 3 氧化還原電位 2.07E 0 NO、N 2 O) 還原為氮氣分子 (N 2 )的
系統:廢水再生系統,採用方式是 volt,H 2 O 2 氧化還原電位 1.77E 0 生物化學過程;馴養菌的過程需供
高級氧化法;提濃廢水處理系統, volt,故 O 3 的氧化性比 H 2 O 2 強, 給部分有機碳源讓細菌使用,可選
採用方式是生物薄膜系統 (Mem- 且O 3 +UV 產 生 的 OH radical = 比 用葡萄糖、果糖、糖蜜、醇類或醋
300mm FABS FACILITY JOURNAL SEPTEMBER 2016 85