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技術專文

Abstract 隨著半導體產業日新月異的發展，整條製程產線上從化學品供應系統到設備機台都須不斷地強化更新。
本篇著重在化學研磨液供應系統的強化。現今化學研磨液供應系統雖趨於成熟，但為了因應新物料的產
生、使用者需求、更精準的品質以及強化供應系統穩定性，系統仍有許多可精進的空間。廠務提出許多
改善措施已達固本培元，改善方案著重在硬體與軟體。本篇介紹共有四項硬體改善與兩項軟體功能新增。
硬體方面可確保系統供應物料品質，並且量測穩定。改善至今已有效減少品質警報發生次數高達 80%；
軟體方面可利於人員操作系統並減少誤操作之風險。功能新增至目前已成功減少人員誤操作次數並可快
速地依照使用者需求而做變更。
關鍵詞/ 研磨液供應系統、雙氧水自動滴定儀、感測器、研磨液過濾
Keywords/ Slurry Dispense System, SemiChem APM, Omron Sensor, Slurry Filtration

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